離子濺射儀（噴金儀）產(chǎn)品簡介：1、人性化設(shè)計，儀器操作簡單，一鍵鍍膜。2、儀器小巧，不占空間，適用于實(shí)驗(yàn)室、科研院所等。3、鍍膜均勻細(xì)密，適用于多種靶材。4、樣...

離子濺射儀的離子流的大小通過控制真空壓力實(shí)現(xiàn)，真空度越低，I越大，濺射速度越快，原子結(jié)晶晶粒越粗，電子轟擊樣品（陽極）產(chǎn)生的熱量越高；真空度越高,I越小，濺射速...

全封閉顯影機(jī)主要用于半導(dǎo)體制造中晶片的顯影工藝，性價比高，穩(wěn)定性好，重復(fù)性好，對顯影作業(yè)有非常理想的效果。設(shè)備配有一路顯影和一路水、一路氣吹功能，并且噴嘴位置可...

小型真空等離子清洗機(jī)是一款專門針對科研院所研制的小批量樣品表面處理設(shè)備，利用真空環(huán)境產(chǎn)生等離子體去處理樣品的表面，達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果。具有設(shè)備小巧，...

半導(dǎo)體顯影機(jī)是用于制造半導(dǎo)體器件的關(guān)鍵設(shè)備。它的工作原理是在半導(dǎo)體制造過程中，使用化學(xué)顯影液對芯片表面進(jìn)行處理，將不需要的材料或圖形去除，從而形成所需的電路結(jié)構(gòu)...

多功能鍍膜設(shè)備是一款集直流磁控濺射鍍膜技術(shù)、電阻蒸發(fā)鍍膜技術(shù)、CVD鍍膜技術(shù)及中頻離子清洗系統(tǒng)相結(jié)合的復(fù)合型設(shè)備，適應(yīng)客戶復(fù)雜的產(chǎn)品工藝切換；真空室內(nèi)可一次性完...

鈣鈦礦鍍膜設(shè)備主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。

科研鍍膜機(jī)主要用于科研、教學(xué)、及化工涂料生產(chǎn)等行業(yè)的表面表面鍍膜。設(shè)備特點(diǎn)：小型試驗(yàn)真空鍍膜機(jī)具有外形美觀、結(jié)構(gòu)緊湊、性能多樣、操作簡單可靠、耗電量低的特點(diǎn)。

實(shí)驗(yàn)室鍍膜機(jī)具有外形美觀、結(jié)構(gòu)緊湊、占地面積小、自動化程度高、操作簡單靈活、性能穩(wěn)定、易維護(hù)的特點(diǎn)，尤其適用于實(shí)驗(yàn)室高校使用，客戶可根據(jù)自身不同需求選配。

小型鍍膜設(shè)備具有外形美觀、結(jié)構(gòu)緊湊、性能多樣、操作簡單可靠、耗電量低的特點(diǎn)。可實(shí)現(xiàn)蒸發(fā)鍍膜、磁控濺射鍍膜、電弧鍍膜等工藝。可進(jìn)行手動、半自動、全自動控制.有多種...

磁控濺射鍍膜設(shè)備集磁控濺射與離子鍍膜技術(shù)為一體，對提高顏色一致性、沉積速率及化合物成份的穩(wěn)定性提供了解決方案。根據(jù)不同的產(chǎn)品需求，可選配加熱系統(tǒng)、偏壓系統(tǒng)、離化...

蒸發(fā)鍍膜設(shè)備主要用于產(chǎn)業(yè)化研究。它能夠蒸鍍有機(jī)、無機(jī)或金屬材料，為各種薄膜材料的研究和應(yīng)用提供了強(qiáng)有力的支持。對于有機(jī)材料，蒸發(fā)鍍膜設(shè)備能夠提供高質(zhì)量的薄膜，具...

蒸發(fā)鍍膜機(jī)可用于加工ABS、PS、PP、PC、PVC、TPU、尼龍、金屬、玻璃、陶瓷等材質(zhì)產(chǎn)品；適用于蒸發(fā)鍍鋁、鉻、銦、錫、銦錫合金、氧化硅、硫化鋅等材料

熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備是專業(yè)在塑料表面進(jìn)行蒸發(fā)鍍鋁絲、鉻絲、銅絲的專用設(shè)備，利用電阻加熱，將金屬絲熔融、汽化，讓金屬分子沉積在基片上，獲得光滑的高反射率的金屬膜層，達(dá)到...

真空鍍膜設(shè)備通常由多個關(guān)鍵部分組成，每個部分都有其特定的功能，協(xié)同工作以實(shí)現(xiàn)高效、均勻的薄膜沉積。

小型真空鍍膜機(jī)采用大抽速分子泵準(zhǔn)無油高真空系統(tǒng)，機(jī)架電控一體化設(shè)計，整體布局緊湊合理，充分考慮人機(jī)工程學(xué)的傾斜操控面板和可直觀觀察蒸發(fā)狀態(tài)的玻璃真空室結(jié)構(gòu)相得益...

實(shí)驗(yàn)室真空鍍膜設(shè)備采用封閉的系統(tǒng)框架，外觀漂亮，使用安全。4～12組蒸發(fā)源可兼容金屬、有機(jī)物蒸發(fā)。

HP100-PA 烤膠機(jī)是一款高性能烤膠設(shè)備，帶有真空吸附、頂針定位烤膠、線性升溫等功能，可以存貯 100 組程序，每組程序可設(shè)多步。所有運(yùn)行參數(shù)如加熱時間、頂...

小型離子濺射儀(Small size ion sputtering instrument)是一種物理氣相沉積技術(shù)，可用于制備薄膜和表面處理。它采用高能離子轟擊靶...

全自動離子濺射儀是一種功能強(qiáng)大的電子設(shè)備，經(jīng)常用于表面分析和薄膜制備。它可以利用離子束轟擊樣品表面，然后通過檢測生成的離子進(jìn)行分析。