VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器返回列表頁

舉報評價

參考價

面議

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號PLD-T

品牌其他品牌

廠商性質(zhì)代理商

所在地上海市

在線詢價加入對比查看聯(lián)系電話

更新時間：2024-09-11 11:16:29瀏覽次數(shù)：148次

聯(lián)系我時，請告知來自化工儀器網(wǎng)

產(chǎn)地類別	進口	價格區(qū)間	面議
應(yīng)用領(lǐng)域	綜合

產(chǎn)地類別

進口

價格區(qū)間

面議

應(yīng)用領(lǐng)域

綜合

VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器

英國VacTechniche,真空鍍膜系統(tǒng),濺射鍍膜機,PLD-T 脈沖激光器，沉積和熱蒸發(fā)器

PLD-T 脈沖激光器沉積和熱蒸發(fā)器

SEM/TEM 樣品制備 Vac Techniche

多功能脈沖激光沉積和熱蒸發(fā)器系統(tǒng) – PLD-T 是一種高真空薄膜沉積系統(tǒng)，可通過脈沖激光沉積和熱蒸發(fā)技術(shù)沉積不同的材料。它可以將復(fù)雜材料和晶體結(jié)構(gòu)沉積到基板上，只需很少的設(shè)置。

脈沖激光沉積技術(shù)可實現(xiàn)高效的非熱燒蝕，并保持靶材的化學(xué)計量。通過應(yīng)用這種方法，它可以沉積氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和復(fù)合材料等材料。

PLD-T
熱蒸發(fā)源
（舟/籃/盤管）

脈沖激光沉積系統(tǒng)可配備三個獨立的熱阻熱蒸發(fā)源。蒸發(fā)源支架的良好設(shè)計不會使污染物從源材料轉(zhuǎn)移到其他材料。源架的長度可在 5~10 cm 范圍內(nèi)調(diào)節(jié)，滿足客戶要求。

DCT-Desktop 碳素涂布機

轉(zhuǎn)速可調(diào)的目標(biāo)機械手
3 個熱源和特殊的饋入件
用于實時厚度測量的石英晶體監(jiān)測系統(tǒng)（精度為 1 nm）
直觀的觸摸屏，用于控制涂層過程和快速數(shù)據(jù)輸入
等離子清洗
用戶友好型軟件，可通過網(wǎng)絡(luò)更新
配備旋轉(zhuǎn)樣品架
配備電子快門
配備機動船選擇
500 °C 基板加熱器
兩年保修

VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器

VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器返回列表頁

PLD-T 脈沖激光器沉積和熱蒸發(fā)器

脈沖激光沉積技術(shù)可實現(xiàn)高效的非熱燒蝕，并保持靶材的化學(xué)計量。通過應(yīng)用這種方法，它可以沉積氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和復(fù)合材料等材料。

PLD-T
熱蒸發(fā)源
（舟/籃/盤管）

DCT-Desktop 碳素涂布機

轉(zhuǎn)速可調(diào)的目標(biāo)機械手

3 個熱源和特殊的饋入件

用于實時厚度測量的石英晶體監(jiān)測系統(tǒng)（精度為 1 nm）

直觀的觸摸屏，用于控制涂層過程和快速數(shù)據(jù)輸入

等離子清洗

用戶友好型軟件，可通過網(wǎng)絡(luò)更新

配備旋轉(zhuǎn)樣品架

配備電子快門

配備機動船選擇

500 °C 基板加熱器

兩年保修

化工儀器網(wǎng)

會員登錄

收藏該商鋪

提示

VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器 返回列表頁

PLD-T 脈沖激光器沉積和熱蒸發(fā)器

脈沖激光沉積技術(shù)可實現(xiàn)高效的非熱燒蝕，并保持靶材的化學(xué)計量。通過應(yīng)用這種方法，它可以沉積氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和復(fù)合材料等材料。

PLD-T熱蒸發(fā)源（舟/籃/盤管）

DCT-Desktop 碳素涂布機

轉(zhuǎn)速可調(diào)的目標(biāo)機械手

3 個熱源和特殊的饋入件

用于實時厚度測量的石英晶體監(jiān)測系統(tǒng)（精度為 1 nm）

直觀的觸摸屏，用于控制涂層過程和快速數(shù)據(jù)輸入

等離子清洗

用戶友好型軟件，可通過網(wǎng)絡(luò)更新

配備旋轉(zhuǎn)樣品架

配備電子快門

配備機動船選擇

500 °C 基板加熱器

兩年保修

化工儀器網(wǎng)

會員登錄

收藏該商鋪

提示

客戶評價列表

VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器返回列表頁

脈沖激光沉積技術(shù)可實現(xiàn)高效的非熱燒蝕，并保持靶材的化學(xué)計量。通過應(yīng)用這種方法，它可以沉積氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和復(fù)合材料等材料。

PLD-T
熱蒸發(fā)源
（舟/籃/盤管）

用戶友好型軟件，可通過網(wǎng)絡(luò)更新