美國 Nonsequitur 低能量離子槍 真空 返回列表頁

美國 Nonsequitur 低能量離子槍 真空 1402W

美國 Nonsequitur 低能量離子槍 真空 1402W

聚焦柱經(jīng)過優(yōu)化，能量吞吐量低

高亮度電子撞擊源可最大限度地去除塊狀材料

發(fā)射調(diào)節(jié)轟擊提供穩(wěn)定的離子電流，前面板可調(diào)節(jié)動(dòng)態(tài)范圍 x300

連續(xù)可變的光束能量高達(dá) 5keV

可更換的光束微調(diào)光圈，典型使用壽命大于 500 小時(shí)

雙燈絲提供操作備份，燈絲典型使用壽命 > 500 小時(shí)

所有 UHV 兼容和抗蝕刻材料均用于制造

可在惰性氣體、氧氣和可選的索里亞燈絲范圍內(nèi)運(yùn)行

中性抑制柱中的 3 度彎曲

2 級(jí)差分泵，可在極低的腔室壓力下運(yùn)行

工作距離 20 毫米

光束能量 10eV 至 5keV 連續(xù)可變

光柵尺寸 7 x 7 毫米（最小值）

安裝法蘭 70 毫米（2.75 英寸）外徑 CF

差分泵 70 毫米（2.75 英寸）外徑 CF

供氣入口 34 毫米（1.33 英寸）外徑 CF

源氣體 H2、He、N2、Ne、Ar、Kr、Xe

烘烤溫度： 最高 100 °C

Duoplasmatron Duoplasmatron Equavalent Ion Guns Model 1402 Model 1403 TOF/SIMS Model 1403Cs - Cesium/Alkali Ions Model 1404 Model 1407 Model 1420 Model 1450 Nonsequitur SIMS 二次離子質(zhì)譜 雙等離子發(fā)射器 真空測試 真空系統(tǒng) 真空腔 真空表面化學(xué)實(shí)驗(yàn) 離子槍 離子源 聚焦離子源 表面分析儀器