LK Technologies低能電子衍射儀真空組件
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LK Technologies低能電子衍射儀真空組件
自1998年以來,LK一直在全球范圍內(nèi)提供LEED低能電子衍射儀系統(tǒng)。
RVL2000低能電子衍射儀(LEED)的精密反向LEED低能電子衍射儀光學元件采用所有UHV結(jié)構(gòu),無需使用玻璃纖維或聚合物涂層線束。提供完整系列的型號和選件,包括低電流(nA,pA)MCP型號。所有光學器件均采用4網(wǎng)格結(jié)構(gòu),以實現(xiàn)與俄歇電子能譜AES連用
采用4格鎢光學元件的精密結(jié)構(gòu)
微型1.59厘米直徑電子槍
103度可用視角
0.5%的能量分辨率
提供可伸縮光學元件(標準2英寸和最大4英寸縮回)
安裝法蘭具有整體視口和電氣穿通裝置
與UHV兼容(不使用聚合物涂層或玻璃纖維絕緣線)
低噪音,高性能的俄歇電子設備,帶有集成鎖定放大器
MCP版本的pA和nA電流水平
全系列選項包括低調(diào)快門,CCD攝像頭和軟件,6英寸和8英寸外徑法蘭型號
LK Technologies低能電子衍射儀真空組件
HREELS高分辨電子能量損失譜儀在分辨率和信號水平方面表現(xiàn)全球?,F(xiàn)在結(jié)合我們的多通道分析儀選件(EA5000MCA),可實現(xiàn)數(shù)據(jù)采集速度。用于研究表面分子振動,表面聲子和等離子體以及電子能級和能帶隙。
超高分辨率0.5 meV FWHM
在1.0 meV分辨率(FWHM)下保證探測器電流大于或等于10pA
采用具有可控角度像差的新型靜電偏轉(zhuǎn)器
具有菜單驅(qū)動軟件的低噪聲數(shù)字控制電子設備
用戶可選擇的掃描范圍高達50 eV,適用于電子振動/電子應用
LK1000M電子槍有出色能量分辨率的電子源,針對高輸出電流進行了優(yōu)化 應用于逆UPS,EELS等電子碰撞實驗。
低于10 meV的能量分辨率可通過能量調(diào)節(jié)
在20 meV能量分辨率下,典型輸出電流> 10 nA
單通道雙聚焦單色器,具有空間電荷優(yōu)化功能
5元素變焦鏡頭/轉(zhuǎn)移鏡頭,適用于長工作距離
整體磁屏蔽
除了表面分析組件外,LK Technologies還專門設計和構(gòu)建完整的特高壓系統(tǒng),這些系統(tǒng)通常結(jié)合了LK組件和其他制造商的多種表面分析方法。
這些系統(tǒng)的常見元件是精密UHV室,主泵(通常是離子泵),輔助泵(通常是渦輪分子),精密樣品操縱器,安裝框架和真空計量??蛻敉ǔR蟮目蛇x組件是快速樣品引入系統(tǒng)(加載鎖定)和烘烤控制。
請聯(lián)系LK獲取更多信息,并討論您的自定義系統(tǒng)要求。多探針分析系統(tǒng)是全球?qū)嶒炇姨峁┑囊粋€例子:
多探針分析系統(tǒng),包括XPS分析,X射線單色儀,半球形分析儀,AES,ISS,多通道HREELS和帶有快速樣品加載系統(tǒng)的完整樣品制備室。
LK-Technologies強大,流行的離子源設計用于通過離子濺射清潔表面,光束能量高達3 keV,典型離子電流高達30μA。該噴槍采用了一種新穎的氣體噴射系統(tǒng),該系統(tǒng)允許在典型的1×10 -6托的腔室壓力下進行濺射。