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美國(guó) AP TECH 離子源 熱離子發(fā)射器 真空

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更新時(shí)間:2024-10-28 15:11:24瀏覽次數(shù):30次

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美國(guó) AP TECH 離子源 熱離子發(fā)射器 真空 陰極
唐:I582I984229

美國(guó) AP TECH 離子源 熱離子發(fā)射器 真空

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美國(guó) AP TECH 離子源 熱離子發(fā)射器 真空

美國(guó) AP TECH,電子源,熱離子發(fā)射器 (TE),陰極,六硼化鑭 (LaB6),六硼化鈰 (CeBix®) 的 Sl.均 LaB6,CeBix®

數(shù)十年的研究、開(kāi)發(fā)和電子源制造,對(duì)電子發(fā)射物理學(xué)的深入了解使其成為商用熱敏、場(chǎng)發(fā)射和熱場(chǎng)發(fā)射陰極生產(chǎn)商,這些產(chǎn)品用于顯微鏡、微量分析、X 射線生成、光刻、增材制造或任何其他需要高亮度源的電子束應(yīng)用。

熱離子發(fā)射器 (TE)

在熱離子狀態(tài)下工作的陰極被加熱到高溫。當(dāng)電子有足夠的熱能來(lái)克服制造陰極的材料的功函數(shù)時(shí),就會(huì)發(fā)生發(fā)射。

我們的熱離子陰極由六硼化鑭 (LaB6) 和六硼化鈰 (CeBix®) 的 Sl.均 LaB6和 CeBix® 是低功函數(shù)材料,可生產(chǎn)相對(duì)高亮度的陰極,有適度的真空要求和較長(zhǎng)的保質(zhì)期。這些陰極可在高達(dá) 20 A/cm 的電流密度下提供長(zhǎng)期、穩(wěn)定的運(yùn)行2,使其成為 SEM、TEM、電子束滅菌、表面分析和計(jì)量等小光斑應(yīng)用以及 X 射線生成、光刻和增材制造等大電流應(yīng)用的理想選擇。

在 APT,制造自己的高質(zhì)量單晶 LaB6和 CeBix® 內(nèi)部使用一種工藝,生產(chǎn)市面上純凈和低的功函數(shù)材料。精煉后,硼化物可以定制成各種形狀,具有不同的加熱、安裝和底座配置,所有這些都旨在滿足客戶(hù)的操作和性能要求。

功函數(shù)略低于 LaB6,CeBix® 陰極在略低的工作溫度下產(chǎn)生更高的電流。因此,CeBix® 源的亮度略高,使用壽命更長(zhǎng)。APT 是CeBix® 陰極商業(yè)生產(chǎn)商。

還可以提供 LaB6和 CeBix® 單晶棒和圓盤(pán)

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