生產(chǎn)去離子水的設(shè)備供應(yīng)商

 生產(chǎn)去離子水的設(shè)備供應(yīng)商

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 反滲透生產(chǎn)設(shè)備工藝流程：
原水 → 原水箱 → 原水泵 →多介質(zhì)過(guò)濾器 （石英砂過(guò)濾器）→活性炭過(guò)濾器 →軟水處理器（添加阻垢劑裝置） → 精密過(guò)濾器 → 高壓泵 → 一級(jí)反滲透（RO）裝置 →紫外線(xiàn)殺菌裝置（臭氧殺菌裝置） → 用水點(diǎn)

設(shè)備參數(shù)：
　　名稱(chēng)：超純水設(shè)備
　　型號(hào)：XS-10T
　　進(jìn)水口徑：15-100（mm）
　　產(chǎn)水量：0.25-50t/h
　　工作壓力：1.5MPa（psi）
　　概述：

　　選擇去離子水設(shè)備的必要性：  
　　去離子水在電子工業(yè)主要是線(xiàn)路板、電子元器件生產(chǎn)中的重要作用日益突出，去離子水質(zhì)已成為影響線(xiàn)路板、電子元器件產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)成品率及生產(chǎn)成本的重要因素之一，水質(zhì)要求也越來(lái)越高。在電子元器件生產(chǎn)中，去離子水主要用作清洗用水及用來(lái)配制各種溶液、漿料，不同的電子元器件生產(chǎn)中純水的用途及對(duì)水質(zhì)的要求也不同。
　　在晶體管、集成電路生產(chǎn)中，去離子水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設(shè)備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路生產(chǎn)過(guò)程中的80%的工序需要使用高純水清洗硅片，水質(zhì)的好壞與集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率關(guān)系很大。