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| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子 |
產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
kSA 400 RHEED分析系統(tǒng)，適合各種RHEED系統(tǒng)和薄膜沉積系統(tǒng)（如：脈沖激光沉積設(shè)備PLD,濺射系統(tǒng)Sputtering,分子束外延MBE, 金屬有機(jī)化學(xué)氣象沉積MOCVD等）！目前第四代系統(tǒng)結(jié)合新的硬件和軟件，為客戶提供豐富的RHEED分析信息。
kSA 400 RHEED分析系統(tǒng) 超過500個(gè)用戶，國內(nèi)如南京大學(xué)、中科院半導(dǎo)體所、電子部11所、中國科技大學(xué)、復(fù)旦大學(xué)、上海技術(shù)物理研究所等；
技術(shù)參數(shù)：
• CCD系統(tǒng)：高速、高分辨和高靈敏度三種可選
• 光學(xué)系統(tǒng)：RHEED定量分析及成像分析
• 標(biāo)準(zhǔn)接口法蘭
主要特點(diǎn)：
• 圖像分析：單一圖像分析（靜態(tài)分析）模式，用戶選擇多圖像模式，聚焦模式，掃描模式，錄像模式，交互圖像疊加模式，2D和3D圖像分析；
• 實(shí)時(shí)衍射條紋演化監(jiān)控拍攝；
• 實(shí)時(shí)薄膜沉積速率測量；
• 原位表面診斷分析
• 軟件分析功能
• RHEED振蕩追蹤檢測
• 可擴(kuò)展：Phase Locked Epitaxy (PLE), LEED, Auger/XPS,電子槍控制和搖擺曲線掃描；
專業(yè)的RHEED分析系統(tǒng)(kSA 400 Analytical RHEED System)，適合各種RHEED系統(tǒng)和薄膜沉積系統(tǒng)（如：脈沖激光沉積設(shè)備PLD,濺射系統(tǒng)Sputtering,分子束外延MBE, 金屬有機(jī)化學(xué)氣象沉積MOCVD等）！目前第四代系統(tǒng)結(jié)合新的硬件和功能強(qiáng)大的軟件為客戶提供廣泛的RHEED分析信息。kSA 400 RHEED分析系統(tǒng)，適合各種RHEED系統(tǒng)和薄膜沉積系統(tǒng)（如：脈沖激光沉積設(shè)備PLD,濺射系統(tǒng)Sputtering,分子束外延MBE, 金屬有機(jī)化學(xué)氣象沉積MOCVD等）！目前第四代系統(tǒng)結(jié)合新的硬件和軟件，為客戶提供豐富的RHEED分析信息。
實(shí)際應(yīng)用廣泛，歡迎廣大新老客戶咨詢，我們會竭力為您解決問題。期待我們能成為朋友，能為您的科研事業(yè)盡到微薄之力，我們倍感榮幸。同時(shí)感謝廣大用戶對我們一直的支持。謝謝！
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