產(chǎn)地類別 | 進口 | 應用領域 | 環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子 |
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產(chǎn)品簡介
詳細介紹
薄膜生長速率測試儀,采用無損的激光技術實時原位檢測薄膜沉積速率、薄膜厚度以及光學常量(n&k),可廣泛的應用于金屬有機化學氣象沉積MOCVD、分子束外延MBE、濺射系統(tǒng)Sputtering和蒸發(fā)系統(tǒng)等薄膜沉積過程的實時原位監(jiān)控。
薄膜生長速率測試儀
主要特點:
*實時薄膜沉積速率、薄膜厚度和光學常數(shù)(n&k)分析,同時標準偏差統(tǒng)計分析;
*自動程序化校準;
*實時反饋系統(tǒng);
*程序控制,可實時多層薄膜沉積監(jiān)控和控制;
*多Wafer監(jiān)控功能;
*Wafer基底旋轉(zhuǎn)監(jiān)控和控制功能;
*所有參量原位實時檢測;
*操作裝配簡單便捷;