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kSA BandiT實(shí)時(shí)襯底溫度測(cè)試儀

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更新時(shí)間:2024/07/04 15:42:25瀏覽次數(shù):2312

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 面議
儀器種類 多通道 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,生物產(chǎn)業(yè),農(nóng)業(yè),地礦,能源
kSA BandiT實(shí)時(shí)襯底溫度測(cè)試儀是一種非接觸、實(shí)時(shí)測(cè)量半導(dǎo)體襯底表面溫度的測(cè)試系統(tǒng),采用半導(dǎo)體材料吸收邊隨溫度的變化,實(shí)時(shí)測(cè)量晶片/襯底的溫度;并且kSA BandiT 已經(jīng)成功地安裝到眾多的MBE, MOCVD, Sputter, PLD等半導(dǎo)體沉積設(shè)備上,實(shí)現(xiàn)了晶片的溫度實(shí)時(shí)檢測(cè)。

詳細(xì)介紹

kSA BandiT實(shí)時(shí)襯底溫度測(cè)試儀是一種非接觸、實(shí)時(shí)測(cè)量半導(dǎo)體襯底表面溫度的測(cè)試系統(tǒng),采用半導(dǎo)體材料吸收邊隨溫度的變化,實(shí)時(shí)測(cè)量晶片/襯底的溫度;并且kSA BandiT 已經(jīng)成功地安裝到眾多的MBE, MOCVD, Sputter, PLD等半導(dǎo)體沉積設(shè)備上,實(shí)現(xiàn)了晶片的溫度實(shí)時(shí)檢測(cè)。

kSA BandiT多晶片溫度監(jiān)控軟件結(jié)合了自動(dòng)伺服馬達(dá)控制的掃描檢測(cè)功能,從而實(shí)現(xiàn)了MBE外延薄膜生長過程中多襯底溫度實(shí)時(shí)Mapping檢測(cè)。

該系統(tǒng)在外延薄膜生長過程提供襯底/晶片實(shí)時(shí)的二維溫度信息的系統(tǒng)。對(duì)Wafer(及薄膜)表面溫度實(shí)時(shí)、非接觸、非入侵的直接檢測(cè);采用溫度和半導(dǎo)體材料對(duì)光的吸收邊(譜帶能量)相關(guān)性原理,即材料的本征特性,使得測(cè)量結(jié)果更為準(zhǔn)確;可裝載到MBE、MOCVD、濺射、蒸發(fā)系統(tǒng)等和熱處理、退火設(shè)備上,進(jìn)行實(shí)時(shí)溫度檢測(cè)。


kSA BandiT實(shí)時(shí)襯底溫度測(cè)試儀

技術(shù)參數(shù):
 溫度范圍:室溫~1300攝氏度;
 溫度重復(fù)性:0.2攝氏度;
 溫度分辨率:0.1攝氏度;
 穩(wěn)定性:+/-0.2攝氏度;


主要特點(diǎn):
    *實(shí)時(shí)、非接觸、非入侵、直接Wafer溫度監(jiān)測(cè);
    *多基片/晶片表面2D溫度Mapping監(jiān)測(cè);
    *真實(shí)的Wafer表面或薄膜溫度監(jiān)測(cè);
    *整合了新的黑體輻射監(jiān)測(cè)技術(shù);
    *沉積速率和薄膜厚度分析;
    *表面粗糙度分析功能;
    *測(cè)量波長范圍可選(例如:可見光波段、近紅外波段等)
    *避免了發(fā)射率變化對(duì)測(cè)量的影響;
    *無需沉積設(shè)備Viewport特殊涂層;


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