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制氮裝置等氮?dú)饧兓O(shè)備

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更新時(shí)間:2021-07-28 13:37:50瀏覽次數(shù):1983

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制氮裝置等氮?dú)饧兓O(shè)備純氣含過(guò)量氫,適合需還原性氣氛的應(yīng)用,氫含量可調(diào)。原理簡(jiǎn)單,結(jié)構(gòu)合理,能耗低,氣體指標(biāo)溫度,雜質(zhì)含量低,可選配自動(dòng)系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)無(wú)人值守,應(yīng)用范圍廣,對(duì)原料氣無(wú)特殊要求。

詳細(xì)介紹

制氮裝置等氮?dú)饧兓O(shè)備原理;

O2 + H2 ----- HO2

       利用氧氣和氫氣在催化劑作用下反應(yīng)生成水的原理,在氮?dú)庵屑尤霘錃猓旌蠚庠谘b有高效的催化劑的除氧器中反應(yīng),去除氧雜質(zhì),再經(jīng)過(guò)冷卻、吸附兩級(jí)干燥除水,得到高純氮?dú)狻?/p>

 

制氮裝置等氮?dú)饧兓O(shè)備特點(diǎn):

● 純氣含過(guò)量氫,適合需還原性氣氛的應(yīng)用,氫含量可調(diào)。

● 原理簡(jiǎn)單,結(jié)構(gòu)合理,能耗低

● 氣體指標(biāo)溫度,雜質(zhì)含量低

● 可選配自動(dòng)系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)無(wú)人值守

● 應(yīng)用范圍廣,對(duì)原料氣無(wú)特殊要求

 

技術(shù)指標(biāo):

普通氮?dú)猓?/p>

● 壓力—— 0.6~0.7Mpa
● 常壓露點(diǎn)—— 無(wú)要求
● 氧含量——≤3%
● 處理氣量——10~5000Nm3/hr

 

高純氮?dú)猓?br />● 壓力—— 0.5~0.6Mpa(可調(diào))
● 常壓露點(diǎn)——≤-70℃
● 氧含量——≤3ppm
● 氫含量—— 500~2000ppm
● 氮?dú)饬?mdash;—10~5000Nm3/hr

 

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