熱蒸發(fā)鍍膜設備_百科_江蘇雷博供應杭州/蘇州等地 參考價:面議
1.EC400是一臺高真空蒸發(fā)鍍膜設備。2.設備主要由真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測儀、樣品臺、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)等組成...狹縫涂布機_百科_江蘇雷博供應杭州/上海等地 參考價:面議
SD050小型狹縫涂布機用于制備均一的涂膜,因為影響涂膜的因素是基材移動速度以及膠液補充速度。該設備使用一個高精度的涂液模頭,以選定的速度來回移動。由于基材平整...小巧型實驗室涂膜機 參考價:面議
PF200-H加熱型涂膜機用于制備均一的涂膜,因為影響涂膜的因素是剪切速率和加在施工工具上的重量。該設備使用一個控制的線棒或涂膜器,以選定的速度來回移動。由于試...加熱型實驗室自動涂膜機 參考價:面議
PF400-H加熱型加熱型實驗室自動涂膜機用于制備均一的涂膜,因為影響涂膜的因素是剪切速率和加在施工工具上的重量。該設備使用一個控制的線棒或涂膜器,以選定的速度...加熱型基本提拉鍍膜機 參考價:面議
DP100-BE-H型提拉鍍膜機是一款適用于液相鍍膜制 備而設計的精密儀器,可實現(xiàn)智能化編程控制。 DP100-BE-H提拉鍍膜機是一款加熱基本型提拉鍍膜機, ...等離子清洗機 參考價:面議
PT40K-SE等離子清洗機滿足8寸以下基片使用滿足8寸以下基片使用,適用性廣。它可以高效清洗,快速達成需要的表面親水性。在實驗過程中無環(huán)境污染、無化學品消耗、...等離子清洗機 參考價:面議
PT40K-BE等離子清洗機滿足8寸以下基片使用滿足8寸以下基片使用,適用性廣。它可以高效清洗,快速達成需要的表面親水性。在實驗過程中無環(huán)境污染、無化學品消耗、...等離子清洗機 參考價:面議
PT13M-SE等離子清洗機滿足8寸以下基片使用,一鍵式操控,適用于科研院所等各種實驗環(huán)境;它是一種是低溫等離子體,能量低、密度高的設備,適合處理特殊材料;在實...等離子清洗機 參考價:面議
PT13M-BE等離子清洗機滿足8寸以下基片使用,一鍵式操控,適用于科研院所等各種實驗環(huán)境;它是一種是低溫等離子體,能量低、密度高的設備,適合處理特殊材料;在實...UM10-PE超薄切片機 參考價:面議
10寸全彩觸屏操作,定制單片機控制;高精度機械式推進結(jié)構(gòu),切片效果平穩(wěn)連續(xù);刀臺XYR三軸可調(diào),電動精準控制刀臺位移;三目體視顯微鏡可直接觀察,外界4K顯示器;...蒸發(fā)鍍膜設備 參考價:面議
1.EC400是一臺高真空蒸發(fā)鍍膜設備。2.設備主要由真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測儀、樣品臺、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)等組成...蒸發(fā)鍍膜機 參考價:面議
1.EC400是一臺高真空蒸發(fā)鍍膜設備。2.設備主要由真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測儀、樣品臺、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)等組成...熱蒸發(fā)鍍膜設備 參考價:面議
1.EC400是一臺高真空蒸發(fā)鍍膜設備。2.設備主要由真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測儀、樣品臺、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動控制系統(tǒng)等組成...磁控濺射鍍膜設備 參考價:面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸...多功能鍍膜設備 參考價:面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸...科研鍍膜機 參考價:面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸...實驗室鍍膜機 參考價:面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸...小型鍍膜設備 參考價:面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸...真空鍍膜設備 參考價:面議
鍍膜設備主要功能能夠在微顆粒表面沉積各種金屬薄膜(包括磁性金屬膜)、金屬氧化物薄膜、金屬氮化物薄膜及合金薄膜,且所鍍薄膜致密、均勻、純度高、附著力強等。小型真空鍍膜機 參考價:面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸...實驗室真空鍍膜設備 參考價:面議
實驗室真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空電阻加熱蒸發(fā),電子槍加熱蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積...鍍膜設備 參考價:面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸...多靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng) 參考價:面議
1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸...電解拋光儀 參考價:面議
控溫電解雙噴儀是一種用于金屬材料電鏡樣品制備的精密儀器,具備自動控溫和多功能操作的特點。