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薄膜測(cè)厚儀
  • 薄膜測(cè)厚儀
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貨物所在地:安徽合肥市

更新時(shí)間:2024-12-11 21:00:28

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薄膜測(cè)厚儀,采用光譜干涉原理進(jìn)行測(cè)量,具有非接觸、無破壞、快速等特點(diǎn),可在真空環(huán)境使用;可與大行程工件臺(tái)配合,實(shí)現(xiàn)大面積膜厚自動(dòng)測(cè)量。
產(chǎn)品名稱:膜厚儀
主要技術(shù)指標(biāo):
   測(cè)量范圍(VIS):15nm—100μm
測(cè)量重復(fù)性(RMS):0.086nm
   測(cè)量精度(與橢偏儀對(duì)比):0.25nm
   測(cè)量層數(shù):大于3層
   使用光源:鹵素?zé)簦?span style="white-space:pre">
入射角度:90°
   測(cè)試材料:透明或半透明薄膜材料;
   光斑尺寸:20μm—3mm(可選)
   測(cè)量時(shí)間:100ms—4ms;
   通信接口:USB2.0
產(chǎn)品特點(diǎn):
采用光譜干涉原理進(jìn)行測(cè)量,具有非接觸、無破壞、快速等特點(diǎn);
可在真空環(huán)境使用;可與大行程工件臺(tái)配合,實(shí)現(xiàn)大面積膜厚自動(dòng)測(cè)量。

薄膜測(cè)厚儀測(cè)試數(shù)據(jù):

薄膜測(cè)厚儀設(shè)備組成:
測(cè)試主機(jī)、光纖、校正件、測(cè)量頭、夾持裝置、設(shè)備箱、手提電腦。

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