動態(tài)光散射較優(yōu)擬合累積分析法

　　動態(tài)光散射是測量納米顆粒大小的有效方法，但使用線性累積分析法反演的顆粒直徑受數(shù)據點長度的影響較大，數(shù)據點長度不同，擬合結果也不同。針對線性累積分析法的缺點，對比分析了線性和非線性累積分析法，并結合兩者的優(yōu)點提出較優(yōu)擬合累積分析法。此算法由一階曲線擬合反演顆粒的直徑，并與一階多項式擬合結果對比，獲得光強自相關函數(shù)的較優(yōu)線性擬合長度，然后由二階多項式擬合反演顆粒的多分散系數(shù)。理論分析與實驗數(shù)據表明：較優(yōu)擬合累積分析法反演的顆粒直徑相對誤差和重復性均小于2%，多分散系數(shù)相對誤差小于6%，因此利用較優(yōu)擬合累積分析法可獲得穩(wěn)定、可靠的顆粒直徑及其多分散系數(shù)。