PCL納米纖維網(wǎng)格膜片300nm-昊然 返回列表頁

PCL納米纖維網(wǎng)格膜片300nm-昊然

靜電紡絲技術(shù)是目前制備納米纖維重要的基本方法。這一技術(shù)的核心是使帶電荷的高分子溶液或熔體在靜電場中流動并發(fā)生形變,然后經(jīng)溶劑蒸發(fā)或熔體冷卻而固化，于是得到纖維狀物質(zhì)，這一過程簡稱電紡。

PCL納米纖維網(wǎng)格膜片300nm-昊然

PCL納米纖維網(wǎng)格膜片300nm（厚度：1000um）（直徑：3/8cm）（網(wǎng)格空隙：400um）

電紡方法中納米纖維材料在收集器表面因重力和黏性的作用橫截面將從圓形變?yōu)闄E圓形.定義AFM的測量結(jié)果為垂直直徑,SEM的測量結(jié)果為水平直徑,研究了電壓和濃度兩個重要參數(shù)對電紡方法制備PCL納米纖維平均直徑的影響,并得到了質(zhì)量分數(shù)為10%的PCL溶液制備的納米纖維,并且其水平直徑為垂直直徑的1.5倍.

多孔薄膜PLGA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

多孔薄膜PCL納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

多孔薄膜PCL納米纖維200nm（厚度：100/200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PLA納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PLA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

PS納米纖維網(wǎng)格濾片150nm（厚度：600um）（直徑3/8cm）（網(wǎng)格空隙：200um）

PS納米纖維網(wǎng)格濾片300nm（厚度：1000um）（直徑3/8cm）（網(wǎng)格空隙：400um）

PS納米纖維薄膜網(wǎng)格濾片150nm（厚度：1cm）（網(wǎng)格空隙：200um）

PS納米纖維薄膜網(wǎng)格濾片300nm（厚度：1cm）（網(wǎng)格空隙：400um）

PS納米纖維內(nèi)嵌網(wǎng)格濾片150nm（厚度：600um）（孔數(shù)：6/12/24/48/96）（網(wǎng)格空隙：200um）

PLGA納米纖維網(wǎng)格膜片150nm（厚度：600um）（直徑：3/8cm）（網(wǎng)格空隙：200um）

PLGA納米纖維網(wǎng)格膜片300nm（厚度：1000um）（直徑：3/8cm）（網(wǎng)格空隙：400um）

PLGA納米纖維內(nèi)嵌網(wǎng)格膜片150nm（厚度：600um）（孔數(shù)：6/12/24/48/96）（網(wǎng)格空隙：200um）

PLA納米纖維網(wǎng)格膜片150nm（厚度：600um）（直徑：3/8cm）（網(wǎng)格空隙：200um）

PLA納米纖維網(wǎng)格膜片300nm（厚度：1000um）（直徑：3/8cm）（網(wǎng)格空隙：400um）

PLA納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片150nm（網(wǎng)格空隙：200um）

PCL納米纖維網(wǎng)格膜片150nm（厚度：600um）（直徑：3/8cm）（網(wǎng)格空隙：200um）

PCL納米纖維薄膜網(wǎng)格膜片300nm（網(wǎng)格空隙：400um）

PCL納米纖維內(nèi)嵌網(wǎng)格膜片150nm（厚度：600um）（孔數(shù)：6/12/24/48/96）（網(wǎng)格空隙：200um）

溫馨提示：以上產(chǎn)品僅用于科研，不用于人體（ZN2021.07）