昊然-多孔PLGA聚乳酸纖維薄膜靜電紡絲 返回列表頁

昊然-多孔PLGA聚乳酸纖維薄膜靜電紡絲

靜電紡絲作為一種簡便高效的生產(chǎn)高分子納米纖維的加工技術(shù)，用于制備低模量、高柔順性、高強度的可降解高分子纖維材料是一個重要的科學(xué)課題。這類材料研究成功后可用于制作高柔韌性單絲手術(shù)縫線，也可用于制備組織工程支架等，這將推動醫(yī)學(xué)和生物學(xué)的發(fā)展與進步。

昊然-多孔PLGA聚乳酸纖維薄膜靜電紡絲

靜電紡絲是目前制備連續(xù)納米纖維的一種技術(shù).它利用高壓電場將聚合物拉伸細化形成一維的納米纖維,由于通過靜電紡絲制備的納米纖維具有連續(xù)的長度和較大的比表面積,從而被廣泛地應(yīng)用于組織工程支架或模仿的細胞外基質(zhì),作為細胞生長等功能性支架材料.

多孔聚已內(nèi)酯纖維薄膜-纖維直徑500nm

介孔PCL納米纖維膜-孔徑20um

靜電紡絲聚已內(nèi)酯纖維薄膜-大孔

多孔PCL聚已內(nèi)酯聚合物納米纖維膜

孔徑20umPCL納米纖維膜-生物可降解組織支架

多孔PCL納米纖維膜

介孔聚已內(nèi)酯纖維薄膜

不同取向度纖維狀PCL聚已內(nèi)酯薄膜

多孔薄膜PLA納米纖維500nm（厚度：100/200/500）um或1cm

多孔薄膜PLA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

多孔薄膜PLGA納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

多孔薄膜PLGA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

多孔薄膜PCL納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

多孔薄膜PCL納米纖維200nm（厚度：100/200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PLA納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PLA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PLGA納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PLGA納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PCL納米纖維500nm（厚度：200/500）um或1cm

開放式孔構(gòu)薄膜PCL納米纖維200nm（厚度：200/500）um或1cm

溫馨提示：以上產(chǎn)品僅用于科研，不用于人體（ZN2021.07）