電解測(cè)厚儀COULOSCOPE CMS2菲希爾代理* 返回列表頁(yè)

電解測(cè)厚儀COULOSCOPE CMS2菲希爾代理*

COULOSCOPE CMS2電解測(cè)厚儀過(guò)電解去除層來(lái)測(cè)量涂層厚度。特別地，庫(kù)侖法可以用于地確定任何種類(lèi)的基底上的多層。部署CSM2 STEP版本，用于單層標(biāo)準(zhǔn)的STEP測(cè)試測(cè)量，并檢測(cè)潛在的差異，例如在鎳多層質(zhì)量控制中。

COULOSCOPE CMS 測(cè)量原理：

測(cè)量原理 這個(gè)系列儀器根據(jù) DIN EN ISO 2177 標(biāo)準(zhǔn)的庫(kù)侖法。 金屬或非金屬基材上的金屬鍍層，通過(guò)在控制電流條件 下電解腐蝕--------實(shí)際上就是電鍍的反過(guò)程。所載入的電 流與要?jiǎng)冸x的鍍層厚度是成正比的，假如電流和剝離面 積保持不變，鍍層厚度與電解時(shí)間就是成正比的關(guān)系。 
  測(cè)量印刷線(xiàn)路板上剩余純錫的厚度 
下面的公式適用于通過(guò)庫(kù)侖法電解腐蝕確定鍍層厚度： 
d:   
鍍層厚度 [µm] 
eÄ: 
電化學(xué)當(dāng)量 [g/As] 
I:    
電解電流 [A] γ:    電解效率
 t:    電解時(shí)間 [s] A:   電解面積 [cm2] ρ:   電解鍍層材料密度 [g/cm3] 
測(cè)量槽------可比作微型電解缸------被用來(lái)剝離鍍層。 測(cè)量 面積由裝在測(cè)量槽上的墊圈尺寸來(lái)決定。對(duì)不同的金屬 采用不同配方的電解液。通過(guò)載入電流開(kāi)始電解過(guò)程。 電解過(guò)程由 COULSCOPE 儀器的電子部分控制， 用一 個(gè)泵攪拌電解液來(lái)使電解區(qū)域電解液平穩(wěn)腐蝕，保證電 解液*利用。 根據(jù)測(cè)量區(qū)域的大小，各種直徑的墊圈 可供選擇。 

電解測(cè)厚儀COULOSCOPE CMS2菲希爾代理*

Couloscope CMS2特征：

• 大尺寸高分辨率的彩色顯示器
• 簡(jiǎn)單的操作和圖示的用戶(hù)指導(dǎo)
• 使用V18支架實(shí)現(xiàn)半自動(dòng)化測(cè)量
• 電解速度和測(cè)量面積的簡(jiǎn)單選擇                                             （0.1 ----- 50 μm/min） 和（0.6 ----- 3.2 mm Ø）
• 電壓曲線(xiàn)圖形顯示
• 圖形和統(tǒng)計(jì)分析
• 多語(yǔ)言和計(jì)量單位可供選擇

應(yīng)用：
金屬和非金屬基材上的任何金屬涂層
單層和多層涂層厚度測(cè)量
特別適用于通過(guò)STEP Test測(cè)量鎳多層
適用于0.05μm至40μm的涂層厚度 

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