基于非均勻壓電材料的本構(gòu)關(guān)系,幾何關(guān)系和邊界條件,利用分層法的原理進行材料的梯度劃分,分析了力電耦合效應(yīng)下非均勻壓電材料中的斷裂問題。建立含裂紋非均勻壓電板的有限元模型,討論了力電耦合效應(yīng)下不同梯度參數(shù)、不同裂紋形狀、不同裂紋尺寸以及不同梯度函數(shù)對裂紋周圍應(yīng)力和電位移分布的變化規(guī)律。

體內(nèi)腦研究

用于腦研究應(yīng)用的 ECoG 電極

顱骨表面：腦電圖（EEG）

• 優(yōu)點：隨著時間的推移，非侵入性、穩(wěn)定的錄音

• 缺點：空間和時間分辨率低

大腦表面：皮層電圖 (ECoG)

• 優(yōu)點：比穿透電極侵入性更小，信噪比高，隨著時間的推移穩(wěn)定記錄

• 缺點：比 EEG 更具侵入性

大腦內(nèi)部：穿透電極

• 優(yōu)點：高信噪比（接近神經(jīng)元）

• 缺點：高度侵入性（插入大腦），信號/噪聲和神經(jīng)元環(huán)境隨著時間的推移而惡化，可觸及的皮層區(qū)域有限

PDMS柔性植入式神經(jīng)微電極

一種基于PDMS柔性植入式神經(jīng)微電極的制作方法，其特征在于以PDMS作為神經(jīng)電極的基底材料，使用電鍍結(jié)合燒注工藝制作微電極金屬結(jié)構(gòu)且在微電極中集成微管道，具體步驟包括: 1)通過濺射金屬種子層、光刻、電鍍在硅或玻璃基片上制作微電極位點、連接線和焊接點結(jié)構(gòu)； 2)再次旋涂光刻膠，光刻，僅暴露電極位點和焊接點區(qū)域，并再次電鍍，使電極位點和焊接點結(jié)構(gòu)高于電極連接線結(jié)構(gòu)； 3)去除光刻膠，在上述電鍍有金屬結(jié)構(gòu)的基片上旋涂SU-8光刻膠并光刻，以形成用于制作微管道的陽模； 4)在上述基片上澆注PDMS預聚體和固化劑混合液，并以疊加膠膜的平整玻璃或金屬塊壓在澆注PDMS的基片上，加熱固化； 5)從固化后的PDMS表面剝離膠膜和玻璃或金屬塊，再次電鍍，使微電極位點和焊接點區(qū)域形成鉚釘結(jié)構(gòu)，增強電極結(jié)構(gòu)的機械穩(wěn)定性