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時間：2022-4-24閱讀：936

設計和開發(fā)

擁有先進的半導體制造設備和不斷發(fā)展的機床精度的規(guī)?？偸且罂蛻籼岣咝阅?。我們根據半導體路線圖、市場趨勢和客戶需求，制定超精密規(guī)模路線圖，并致力于研發(fā)。開發(fā)新設備和皮科米分辨率刻度時，還必須開發(fā)一個系統(tǒng)來評估它。

此外，設計和開發(fā)方法也必須不斷發(fā)展。物理、化學、電氣、機械和軟件工程師正在共同努力，提高磁階和激光秤的性能。我們的目標是保持我們的基本技術能力，并成為一個團隊，能夠快速、靈活地開發(fā)和商業(yè)化滿足客戶需求的產品。此外，我們開發(fā)具有可靠可靠性的產品，不會辜負客戶的信任。

機械設計
使用模態(tài)分析進行
變形模擬
LSI布線的信號延遲驗證

磁性應用技術

新的磁體刻度源自磁性應用技術，是磁刻度上分辨率為 0.005 μm 的精密測量刻度。光學刻度檢測明暗晶格透射率的變化，而磁刻度通過磁頭檢測磁性介質內部記錄的磁晶格磁通量的變化。為了在磁尺度上獲得高分辨率，良好的磁性介質和低應變頭至關重要。

在規(guī)模方面，我們開發(fā)了高密度磁性介質，具有耐環(huán)境性，可在各種環(huán)境下使用，包括機床和工業(yè)機械。磁頭使用 HDD 中進化的磁阻效應元件，通過*的模式設計將磁信號輸出為高靈敏度、極低失真的信號。此外，在磁刻度上成功實現(xiàn)了M碼磁信號檢測的化。頭部的信號通過專有信號校正電路消除影響精度的 D C 信號分量以及正弦和余弦信號之間的相位差和振幅不平衡，并與 M 代碼一起轉換為高分辨率、高精度的位置。

新的磁階適用于各種環(huán)境（如冷凝和油）的機床，這是光學讀取明暗晶格時無法實現(xiàn)的。此外，磁垢是與鑄鐵具有相同線性膨脹系數(shù)的刻度，鑄鐵是機器的結構。因此，即使在發(fā)生溫度變化的環(huán)境中，也能在與機器相同的溫度特性下進行拉伸，從而實現(xiàn)穩(wěn)定、高精度的加工。

磁垢將進一步追求高精度和耐環(huán)境性能。

磁刻度記錄圖像
長精度測量設備

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