薄膜制備小型磁控濺射儀 返回列表頁

一、產(chǎn)品應用：

JS-600M薄膜制備小型磁控濺射儀采用二極（DC）直流濺射原理設計，帶磁控靶頭，有水冷功能。設備操作簡單方便，適用于掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備,非導體材料實驗電極的制作。

磁控濺射為冷濺射，對樣品表面的升溫較低，適用對溫度較敏感的薄膜樣品。用戶可以根據(jù)自己的需要自行選擇不同的真空條件，濺射電流。大尺寸的真空腔體設計，滿足大樣品的濺射需求。標配一片金靶，純度為99.999%，為獲得高質(zhì)量的金膜提供了良好的基礎。

二、JS-600M薄膜制備小型磁控濺射儀配置及技術指標：

1.本系統(tǒng)裝配了水冷卻磁控靶，靶面直徑為50mm；

2.主機規(guī)格：L360mm*W300mm*H380mm；

3.靶（上部電極）：金：直徑：50mm，厚度：0.1mm；

4.真空樣品室：直徑：160mm，高：110mm；

5.濺射面積：Ф50mm；

6.工作真空：2×10-1—6×10-2 mbar；

7.離子電流表：0-100mA；

8.定時器：根據(jù)濺射習慣設定單次濺射時間；

9.針閥： 配有進氣口，微量充氣調(diào)節(jié)，可連接φ4*2.5mm軟管；

10.工作室工作媒介氣體：空氣或氬氣等多種氣體；

11.濺射電壓：-1600 DCV；

12.飛躍真空泵（VRD-4）：1.1L/S。

三、產(chǎn)品特點：

1.輕便、濺射面積大；

2.可以濺射鉑、金及銀等金屬；

3.濺射效率高，可水冷降溫；

備注：JS-600M小型磁控濺射儀可適用的靶材：金、鉑、銀。