制好藥精準制冷加熱控溫設(shè)備tcu 返回列表頁

制好藥精準制冷加熱控溫設(shè)備tcu

制好藥精準制冷加熱控溫設(shè)備tcu

制好藥精準制冷加熱控溫設(shè)備tcu

造成水溫高的原因可能是：冷卻塔故障，如風(fēng)機未開甚至反轉(zhuǎn)，布水器不轉(zhuǎn)，表現(xiàn)為冷卻水溫度很高，而且快速升高;外界氣溫高，水路短，可循環(huán)的水量少，高低溫一體機這種情況冷卻水溫度一般維持在較高的水平，可以采取增加儲水池的辦法予以解決。

化工行業(yè) 主要用于化工反應(yīng)釜（化工換熱器）的降溫冷卻，及時帶走因化學(xué)反應(yīng)而產(chǎn)生的巨大熱量從而達到降溫（冷卻）的目的，用以進步產(chǎn)品質(zhì)量?！?/span>高低溫一體機制冷系統(tǒng)的工作流程是制冷劑在蒸發(fā)器中汽化，所產(chǎn)生的蒸汽經(jīng)過吸氣過濾器進入壓縮機。制冷劑在壓縮機中被壓縮為高壓氣體，同時潤滑油噴入壓縮機中與制冷劑一起被壓縮，

無錫冠亞恒溫制冷技術(shù)有限公司的溫度控制單元tcu采用現(xiàn)有的熱能（如蒸汽、冷卻水及超低溫液體——即“初系統(tǒng)”）基礎(chǔ)設(shè)施集成到用來控制工藝設(shè)備溫度的單流體系統(tǒng)或二回路中。

TCU主要用于反應(yīng)釜集中控溫的，一般是配套使用，在使用TCU反應(yīng)釜的時候，一定要注意清洗，要不然會影響TCU反應(yīng)釜的高效運行。

　　TCU反應(yīng)釜機械清洗：

　　TCU反應(yīng)釜機械清洗的時候，采用高壓清洗裝置，使用高壓水流通過噴頭沖刷，將反應(yīng)釜內(nèi)壁及攪拌器表面上的堅硬垢物擊碎，*剝離并清除掉。

　　TCU反應(yīng)釜機械清洗高壓清洗的原理為將水壓縮至高壓，然后通過伸入釜內(nèi)的清釜機器人上安裝的噴嘴釋放。壓力能轉(zhuǎn)變?yōu)樗鞯膭幽埽ㄟ^這個能量對壁面污垢進行沖擊實現(xiàn)清洗、清除的效果。

　　TCU反應(yīng)釜機械清洗是單純的物理清洗，所使用的介質(zhì)為水，成本非常低，但是效率非常高，高壓水清洗所用時間短，與手工清洗相比較，能節(jié)省大量人力、物力、財力，還不會對TCU反應(yīng)釜造成損傷。

　　與原來手工清除相比，一年下來能夠節(jié)省大塊的停釜清洗時間，若將這部分時間用于生產(chǎn)，將能額外產(chǎn)生可觀的經(jīng)濟效益。同時，高壓水不會對反應(yīng)釜內(nèi)壁造成任何損傷。目前在化工行業(yè)，高壓水射流清洗已經(jīng)逐步成為清洗方法的主流。

　　TCU反應(yīng)釜化學(xué)清洗：

　　TCU反應(yīng)釜在進行化學(xué)清洗的時候，需要知道反應(yīng)釜設(shè)備內(nèi)的垢樣成分，取樣分析。確定污垢成分后先做試驗，選用清洗劑同時通過試驗確定對設(shè)備金屬不會造成腐蝕。然后通過現(xiàn)場架設(shè)臨時循環(huán)裝置將清洗液在設(shè)備內(nèi)循環(huán)流動，洗去污垢。

　　在進行TCU反應(yīng)釜清洗的時候，先用適量的水沖洗攪拌槳及釜內(nèi)壁，放盡，將溶劑通過加壓裝置流沖刷反應(yīng)釜。如未達到清洗效果，向反應(yīng)釜中加入適量的溶劑升溫攪拌回流至達到清洗要求，然后將溶劑放出， 用一定量的溶劑沖洗反應(yīng)釜內(nèi)壁，放出。

　　TCU反應(yīng)釜人工進釜手工清除：

　　TCU反應(yīng)釜人工進釜手工清除成本是很低的，但是進釜之前需要數(shù)小時的通風(fēng)換氣，清除過程中還須隨時監(jiān)視釜內(nèi)氧氣濃度，有缺氧的危險；同時人工刮鏟除了不能*清理之外，還會造成反應(yīng)釜內(nèi)壁的滑傷，這些滑痕客觀上造成了殘留物的進一步附著。人進釜清理也會造成產(chǎn)品衛(wèi)生上的問題。一般來說，清理一臺釜所需時間約為半天至一天。

　　TCU反應(yīng)釜清洗的三種方法各有利弊，機械清洗不會對設(shè)備產(chǎn)生腐蝕，對硬垢可以有效清洗，但是用時長、勞動強度大；化學(xué)清洗用工少，清洗時間短，清洗*，但是可能會造成設(shè)備被腐蝕；人工進釜手工清除成本低，但是危險性較大，不能*清理干凈。因此化學(xué)清洗應(yīng)用在污垢較軟、薄的工況，機械清洗應(yīng)用在污垢硬、厚的工況。

　　這三種TCU反應(yīng)釜清洗的知識希望能幫助到大家更加高效安全的使用反應(yīng)釜。