電子槍
與分析儀輸入透鏡同軸的電子槍用于在使用單色 X 射線源分析非導電樣品時進行電荷補償,而不使用磁透鏡時,雙束電子槍產(chǎn)生兩種低能離子,以協(xié)助提供有效的電荷補償和低能電子。
應用領域 | 環(huán)保,化工 |
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結合了高靈敏度、高分辨率定量成像以及表面分析多技術聯(lián)用能力的 Thermo Scientific™ ESCALAB™ QXi X射線光電子能譜儀 (XPS) 微探針將滿足您對提高分析性能和靈活性的需求。
ESCALAB QXi XPS微探針是一種可擴展和優(yōu)化的多技術儀器,具有的靈活性和可配置性。它非常靈敏,可在幾秒鐘內(nèi)產(chǎn)生高質(zhì)量的光譜。系統(tǒng)控制、數(shù)據(jù)采集、處理和報告無縫集成在強大的 Thermo Scientific Avantage 數(shù)據(jù)系統(tǒng)中。由直觀EM軟件驅(qū)動的技術保證了的結果和生產(chǎn)力。ESCALAB QXi XPS微探針具有的雙檢測器系統(tǒng),還提供具有出色空間分辨率的優(yōu)質(zhì) XPS 成像。
雙晶微聚焦單色器帶有 500 mm 羅蘭圓,使用鋁陽極(或有雙單色器選項的鋁銀雙陽極),測試光斑尺寸在 200 µm 到 900 µm 范圍內(nèi)可選。
ESCALAB QXi XPS微探針上的透鏡和分析儀系統(tǒng)針對光譜學和平行成像進行了優(yōu)化;單一分析儀路徑意味著相同的儀器參數(shù)(例如,通過能)可用于譜圖和成像。
ESCALAB QXi XPS微探針有兩個選項用于快速、高分辨率的深度剖析:標準 EX06 離子槍,針對單粒子模式離子濺射和離子散射光譜進行了優(yōu)化;以及可選的單粒子和團簇離子源 MAGCIS,它能夠應用于單粒子離子剖析、離子簇剖析和離子散射光譜分析。
包含銅、銀和金樣品的標準塊可用于評估靈敏度、設置分析儀能量標度的線性度、校準離子源、校準 X 射線單色器以及確定分析儀的轉(zhuǎn)換功能。
計算機控制的 5 軸高精度轉(zhuǎn)換器 (HPT) 可實現(xiàn)準確的樣品對齊以進行分析。當與新的自動樣品裝載系統(tǒng)結合使用時,它可用于自動更換樣品架和運行預設實驗樹。
ESCALAB QXi的標準前處理室是一個組合式的樣品入口鎖和制備室,具有可容納各種樣品制備設備的端口,例如加熱/冷卻探針、離子槍、高壓氣室、樣品停放裝置和氣體入口。
與分析儀輸入透鏡同軸的電子槍用于在使用單色 X 射線源分析非導電樣品時進行電荷補償,而不使用磁透鏡時,雙束電子槍產(chǎn)生兩種低能離子,以協(xié)助提供有效的電荷補償和低能電子。
ESCALAB QXi XPS微探針配備了兩個檢測器系統(tǒng):一個針對光譜進行了優(yōu)化,由一組六通道電子倍增器組成,另一個用于平行成像,由一對通道板和一個連續(xù)位置敏感探測器組成。
ESCALAB QXi的所有分析功能均由基于 Windows 軟件的 Avantage 數(shù)據(jù)系統(tǒng)控制,這意味著可以根據(jù)需要遠程執(zhí)行整個分析過程。
ESCALAB QXi的樣品臺上的所有運動軸均由 Avantage 數(shù)據(jù)系統(tǒng)控制,儀器上安裝了高分辨率數(shù)碼攝像機,并與分析位置準確對齊。
ESCALAB QXi的分析室由 5 mm 厚的高導磁合金構成,以最大限度地提高磁屏蔽效率,并使用渦輪分子泵和鈦升華泵對分析室進行抽氣,使分析室的真空度優(yōu)于 5 x 10-10毫巴。
測量坐標可以通過Thermo Scientifc Maps軟件從專用顯微鏡系統(tǒng)導入Avantage數(shù)據(jù)系統(tǒng),從而更快地識別測量區(qū)域。可以將 XPS 光譜和成像數(shù)據(jù)添加至 Maps 軟件中,以便直接比較表面化學和結構信息。
單色 X 射線源 |
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分析 |
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離子源 |
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真空系統(tǒng) |
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樣品臺 |
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包括標準分析技術 |
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可選的分析技術 |
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可選配件 |
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樣品制備選項 |
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