CVD多路氣氛真空氣氛管式爐 返回列表頁

CVD多路氣氛真空氣氛管式爐產(chǎn)品介紹：

高溫管式爐廣泛用于各種反應(yīng)溫度在1600℃左右的CVD實(shí)驗(yàn)；也可用于真空燒結(jié)、真空氣氛保護(hù)燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備等多研究領(lǐng)域。 

產(chǎn)品描述：

高溫管式爐以硅鉬棒為發(fā)熱元件；采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和30段程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng)，能快速升降溫，爐管下方配有支架，有效防止?fàn)t管兩端高溫變形斷裂；可以預(yù)抽真空并能通氫氣、氬氣、氮?dú)?、氧氣、一氧化碳、氨分解氣等氣體，該爐具有溫場(chǎng)均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做氣氛保護(hù)燒結(jié)、氣氛還原用的理想產(chǎn)品。

CVD多路氣氛真空氣氛管式爐主要用途：
主要應(yīng)用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、耐火材料、特種材料、建材、高校、科研院所、工礦企業(yè)做粉末焙燒、陶瓷燒結(jié)、高溫實(shí)驗(yàn)、材料處理、質(zhì)高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD實(shí)驗(yàn)、真空退火等 。

技術(shù)參數(shù)：

PECVD系統(tǒng)

技術(shù)參數(shù)：