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在半導(dǎo)體工藝中，清洗的作用是去除晶圓上的污染物。污垢包括稱為顆粒的看不見的小污垢、人體污垢和皮屑中含有的有機(jī)物、汗液等油脂以及工廠使用的金屬造成的污染。
清潔裝置用溶劑或純水洗掉這些污垢。洗滌后，需要干燥。這稱為干燥/干燥，晶圓在從設(shè)備中取出之前必須干燥。
典型的清洗設(shè)備方法有超聲波清洗、噴淋清洗、刷洗、干洗、溶劑清洗等。
1、超聲波清洗設(shè)備
超聲波清洗設(shè)備是將被清洗物體放入化學(xué)溶液中，利用超聲波使內(nèi)部振動(dòng)來(lái)清洗物體的設(shè)備。根據(jù)清洗對(duì)象選擇振動(dòng)大小和頻率。
2、噴淋清洗設(shè)備
噴霧清洗設(shè)備是從噴嘴噴出氣體或液體來(lái)清洗目標(biāo)物體的方法。我們還有可用于清潔大型物體的手持式清潔設(shè)備。
3、毛刷清潔裝置
刷洗設(shè)備是用刷子清除污垢，然后使用溶液或噴淋清洗將其沖走的設(shè)備。由于使用刷子這種物理方法進(jìn)行清潔，因此可以清潔難以去除的污垢。
4、干洗設(shè)備
干洗設(shè)備通過用UV（紫外線）照射物體產(chǎn)生臭氧和活性氧，使活性氧與污垢發(fā)生反應(yīng)來(lái)去除污垢。主要用于半導(dǎo)體和顯示器制造現(xiàn)場(chǎng)。
5、溶劑清洗設(shè)備
溶劑清洗設(shè)備利用溶劑的溶解力來(lái)溶解去除污垢。請(qǐng)小心，因?yàn)槟赡苁褂梅浅ＮｋU(xiǎn)的溶劑。
