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清洗設(shè)備的基本組成是輸送系統(tǒng)、處理罐、純水罐、干燥臺(tái)。輸送系統(tǒng)是將物體運(yùn)入、運(yùn)出，并對(duì)處理槽內(nèi)的物體進(jìn)行清洗的裝置。純水槽是沖走附著在物體上的化學(xué)溶液的水槽，干燥臺(tái)是干燥物體的裝置。
一般來說，一種處理液只能清洗一種污漬，如果要清洗多種污漬，則需要多個(gè)處理池和純水箱。半導(dǎo)體制造工藝使用批量式設(shè)備，即一次處理多個(gè)晶圓，以及單晶圓設(shè)備，即一張接一張地處理晶圓。
在批量方法中，晶圓被放置在稱為載體的容器中，每個(gè)載體被放置在處理層中進(jìn)行清洗。此外，單晶片方法在逐個(gè)旋轉(zhuǎn)每個(gè)晶片的同時(shí)進(jìn)行噴射清洗。
