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當(dāng)前位置：北京漢達(dá)森機(jī)械技術(shù)有限公司>>材料>> 德國(guó)Hellma CeBr3晶體材料
| 參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)
品 牌Hellma/德國(guó)豪瑪
廠商性質(zhì)代理商
所 在 地天津市
更新時(shí)間：2025-01-03 17:08:27瀏覽次數(shù)：115次
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| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
|---|
德國(guó)Hellma CeBr3晶體材料發(fā)射光譜峰值在370 nm
德國(guó)Hellma GmbH & Co. KG是一家成立于1922年的公司，由Karl Mayer創(chuàng)立。Hellma最初以生產(chǎn)簡(jiǎn)單的光學(xué)玻璃比色皿起家，這些產(chǎn)品主要用于旋光、比色和分光光度測(cè)試。隨著科學(xué)行業(yè)的興旺，特別是五十年代，比色測(cè)試成為了定性分析和定量分析的常用方法，Hellma也積極開發(fā)和擴(kuò)展其產(chǎn)品系列以滿足新型比色皿的迅速增長(zhǎng)需求。
主要產(chǎn)品：
Hellma比色皿
Hellma晶體材料
Hellma光學(xué)材料
Hellma光學(xué)玻璃
Hellma光學(xué)元件
Hellma晶體材料CeBr3
高分辨率：CeBr3晶體以其高分辨率而為人熟知，在高能物理、核醫(yī)學(xué)、石油勘探、環(huán)境監(jiān)測(cè)、安全檢查等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。
快速衰減時(shí)間：CeBr3晶體的衰減時(shí)間快速，這使得它在需要快速響應(yīng)的應(yīng)用中表現(xiàn)出色。
低本底輻射：CeBr3晶體在1500-2200 keV能量范圍內(nèi)，自身本底輻射低于0.001c/s/cc，這為低本底輻射應(yīng)用提供了優(yōu)勢(shì)。
高密度：CeBr3晶體的密度為5.18 g/cm3，略高于LaBr3:5%Ce的5.07 g/cm3，這與其較大的有效原子數(shù)（Zeff）有關(guān)，分別為45.9和45.3。
發(fā)射光譜特性：CeBr3晶體的Ce3?發(fā)射光譜峰值在370 nm，與LaBr3:5%Ce的360 nm相比，略有不同。
自吸收和再發(fā)射：CeBr3晶體的發(fā)射光譜會(huì)因樣本厚度的不同而有所變化，這是由于閃爍自吸收和再發(fā)射過程引起的。
高能量分辨率：CeBr3晶體在662 keV的能量分辨率約為4%，主要由閃爍自吸收和再發(fā)射過程限制，這導(dǎo)致與LaBr3:5%Ce相比，光產(chǎn)量（LY）較低。
高檢測(cè)靈敏度：在低于3 MeV的能量下，CeBr3的平均檢測(cè)靈敏度比LaBr3:5%Ce高約5倍，對(duì)于40K的檢測(cè)高達(dá)16倍。
抗輻射能力：CeBr3能夠承受1012 protons/cm2的質(zhì)子通量（>1 Mrad Siequivalent dose），適用于空間應(yīng)用。
環(huán)境穩(wěn)定性：CeBr3晶體在空氣中易潮解、易氧化，需要避光密封保存，生長(zhǎng)過程中易分解，造成晶體開裂、透明度下降，對(duì)生長(zhǎng)環(huán)境、技術(shù)工藝要求較高。
摻雜性能提升：CeBr3晶體可以通過摻雜其他元素如鍶（Sr）來提高性能，0.2%的鍶摻雜量較為合適，可以兼顧性能與生長(zhǎng)要求。
型號(hào)示例：
Hellma晶體材料CeBr3
Hellma晶體材料Yb3+
Hellma晶體材料BaF2
Hellma晶體材料CaF2
Hellma晶體材料LBC:Ce
Hellma晶體材料CaF2:Eu
Hellma晶體材料CVD Zinc Sulfide
Hellma晶體材料Cleartran
Hellma晶體材料CVD Zinc Selenide
德國(guó)Hellma CeBr3晶體材料發(fā)射光譜峰值在370 nm
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