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目錄:北京鴻瑞正達(dá)科技有限公司>>高真空鍍膜機(jī)>> 鈣鈦礦鍍膜機(jī)

鈣鈦礦鍍膜機(jī)
  • 鈣鈦礦鍍膜機(jī)
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
參考價(jià) 面議
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  • 品牌
  • 型號(hào)
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
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更新時(shí)間:2024-03-07 23:07:24瀏覽次數(shù):496評(píng)價(jià)

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介:鈣鈦礦鍍膜機(jī)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成


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產(chǎn)品簡(jiǎn)介: 鈣鈦礦鍍膜機(jī)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加 熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。 適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜、有機(jī)薄 膜等, 可用于科研單位進(jìn)行新材料、新工藝薄膜研究工作, 也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗(yàn)工作, 廣泛應(yīng)用 于有機(jī)、無(wú)機(jī)、鈣鈦礦薄膜太陽(yáng)能電池、 OLED 等研究領(lǐng)域。鈣鈦礦鍍膜機(jī)工作過(guò)程中樣品位于真空室上 方,蒸發(fā)源位于真空室下方,向上蒸發(fā)鍍膜,且蒸發(fā)源帶有擋板裝置,防止蒸發(fā)源被污染。


產(chǎn)品名稱

鈣鈦礦鍍膜機(jī)

主要特點(diǎn)

1、樣品位于真空室上方,蒸發(fā)源位于真空室下方,向上蒸發(fā)鍍膜,且蒸發(fā)源帶有擋板裝置。


2、設(shè)有烘烤加熱功能,可在鍍膜過(guò)程中加熱樣品, 烘烤加熱溫度可達(dá) 180℃。


3、設(shè)有斷水、斷電連鎖保護(hù)報(bào)警裝置及防誤操作保護(hù)報(bào)警裝置。

技術(shù)參數(shù)

1、鍍膜室:不銹鋼材料,采用方形前后開(kāi)門結(jié)構(gòu),內(nèi)帶有防污板, 腔室尺寸約為 600mm×


450mm×450mm

2、真空排氣系統(tǒng):采用分子泵+機(jī)械泵系統(tǒng)


3、真空度:鍍膜室極限真空≤6×10-4Pa


4、系統(tǒng)漏率:≤ 1×10-7Pa


5、蒸發(fā)源:安裝在真空室的下底上; 有機(jī)蒸發(fā)源 4 個(gè)、 容積 5ml 2 臺(tái)蒸發(fā)電源,可測(cè)溫、





控溫, 加熱溫度 400℃, 功率 0.5KW;無(wú)機(jī)蒸發(fā)源 4 套、 容積 5ml ,2 臺(tái)蒸發(fā)電

源, 加熱電流 300A ,功率 3.2KW;蒸發(fā)源擋板采用自動(dòng)磁力控制方式控制其開(kāi)



6、樣品架:安裝在真空室的上蓋上, 可放置 ?120mm 的樣品、載玻片, 旋轉(zhuǎn)速度 0-30rpm


7、加熱溫度: RT-180℃,測(cè)溫、控溫


8、膜厚控制儀:石英晶振膜厚控制儀, 膜厚測(cè)量范圍 0-999999?


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