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當前位置:深圳秋山工業(yè)設備有限公司>>實驗設備>>恒溫器>> RX-610-R凱爾克kelk化學溶液恒溫循環(huán)器控制器半導體
產(chǎn)品型號RX-610-R
品 牌其他品牌
廠商性質經(jīng)銷商
所 在 地深圳市
更新時間:2024-10-12 10:52:39瀏覽次數(shù):743次
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凱爾克kelk化學溶液恒溫循環(huán)器控制器半導體 RX-610-R 特點介紹
濕法工藝的直接循環(huán)化學恒溫裝置,具有在線冷卻和加熱裝置,不會造成金屬離子洗脫和污染。
KELK的化學循環(huán)器能夠高精度地控制RCA清洗和濕法蝕刻中使用的藥液溫度,作為半導體制造濕法工藝中的設備,得到了廣泛的喜愛。
為了響應近年來使用藥液的多樣化、高兆位化帶來的清潔度提高的要求,進一步進行了更新。(注)作為高溫藥液用,建議使用CS加熱器。
冷卻加熱部的傳熱接液部件使用高純度的玻璃狀碳,無需擔心溶出金屬離子造成的污染,也不需要表面保護膜,也不會因剝離而降低能力。
由于橡膠O型圈不直接接觸液體的密封結構,因此無需選擇酸性液體、堿性液體等每種藥液的密封材質。
由于采用電子冷熱方式,因此適用于室溫附近的溫度控制且精度高。
本裝置符合國際保護標準IP31.
裝置內置檢測藥液和冷卻水泄漏的漏液傳感器、檢測異常溫度的溫度開關,因此您可以放心使用。
凱爾克kelk化學溶液恒溫循環(huán)器控制器半導體 RX-610-R 特點介紹
半導體制造濕法工藝中使用的藥液的溫度管理
●RCA清洗液
●蝕刻液
●光刻工序顯影液
其他領域中的各種藥液的溫度管理
●不能使用電鍍液、各種表面處理液、其他(注)含有臭氧的藥液。
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