目錄:上海首立實(shí)業(yè)有限公司>>HORIBA(過程&環(huán)境)>>過程分析>> EV-140C等離子發(fā)光分析終點(diǎn)檢測儀
產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,石油,建材,電子,汽車 |
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特征
布賴特光學(xué)系統(tǒng)是通過HORIBA Jobin Yvon制造的一個(gè)巨大的,直徑為70 mm的偏差糾正凹面光柵而實(shí)現(xiàn)的。凹面光柵本身的聚光能力使其具有 比短焦距車爾尼特納型光譜儀更為明亮的一套簡易光學(xué)系統(tǒng)架構(gòu),并且可以小化因?yàn)殓R面及其他反射面造成的反射損失。
背光式CCD可以達(dá)到高量子效率,確保從紫外光到可見光之間的寬波段范圍內(nèi)獲得穩(wěn)定的分光鏡使用。高靈敏度的測量在紫外光波段,特別是在那些較少受到干擾影響的波長范圍,使終點(diǎn)監(jiān)測成為可能。
應(yīng)制程控制的要求,此軟件可以執(zhí)行多種工序,從等離子體現(xiàn)象分析到測量數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)庫創(chuàng)建和生產(chǎn)設(shè)備的遠(yuǎn)程遙控。測量工序的可編程架構(gòu)設(shè)計(jì)使其可以對多重監(jiān)測和時(shí)序處理進(jìn)行設(shè)定。它賦予檢測器不僅可以被用于終點(diǎn)監(jiān)測,同時(shí)也可以被廣泛的用于等離子體環(huán)境下的監(jiān)測。
一旦收集到光譜學(xué)的數(shù)據(jù)后,對制程優(yōu)化或者終點(diǎn)監(jiān)測的模擬可以通過應(yīng)用新的制程設(shè)計(jì)反復(fù)進(jìn)行。
從巨大并伴隨干擾的光譜數(shù)據(jù)中發(fā)現(xiàn)細(xì)微的圖形差異是一個(gè)艱巨的挑戰(zhàn)。自動圖形軟件將自動地找到圖形變化的特征并測定為合適的終點(diǎn)波長。
當(dāng)頻率率波器將干擾信號從原始信號中過濾掉后,不同信號(粉色線)在圖形中的比率(黑色線)變化(上升(A+B+C)/減?。―+E+F))可以使我們準(zhǔn)確監(jiān)測到終點(diǎn)的位置。
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