原子層沉積系統(tǒng) 返回列表頁(yè)

        PICOSUN®P-300B ALD 系統(tǒng)是專為生產(chǎn) MEMS 設(shè)備(例如打印頭，傳感器和麥克風(fēng)) 以及各種3D 物品(例如機(jī)械零件，玻璃或金屬薄板，硬幣，手表零件和珠寶，鏡片，光學(xué)器件以及醫(yī)療設(shè)備和植入物。

        該系統(tǒng)已經(jīng)成為高產(chǎn)能ALD制造業(yè)的新標(biāo)準(zhǔn)。擁有的熱壁、獨(dú)立的前驅(qū)體管路和特殊的載氣設(shè)計(jì)，確保我們可以生產(chǎn)出具有優(yōu)異的成品率、低顆粒水平和的電學(xué)和光學(xué)性能的高質(zhì)量ALD薄膜。高效緊湊的設(shè)計(jì)使得維護(hù)更加方便、快捷，限度的減少了系統(tǒng)的維護(hù)停工期和使用成本。擁有技術(shù)的Picoflow™使得在超高深寬比結(jié)構(gòu)上沉積保形性薄膜更高效，并已在生產(chǎn)線上得到驗(yàn)證。