玉崎科學(xué)儀器（深圳）有限公司
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半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku反射熒光X射線光譜儀

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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)XHEMIS TX-3000V

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所  在  地深圳市

更新時(shí)間：2024-09-29 09:17:28瀏覽次數(shù)：123次

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半導(dǎo)體設(shè)備XHEMIS TX-3000V理學(xué)Rigaku反射熒光X射線光譜儀
半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku反射熒光X射線光譜儀

內(nèi)置 VPD 的 TXRF 光譜儀
超快速金屬污染測繪
VPD 的最高靈敏度

兼容最大 300mm 晶圓

半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku反射熒光X射線光譜儀

半導(dǎo)體設(shè)備理學(xué)Rigaku反射熒光X射線光譜儀


XHEMIS TX-3000V 概述

典型元素的檢測限 (LLD)

檢測限LLD（E10原子/cm2）鋁鐵鎳銅
發(fā)射光譜140.060.060.09
VPD-TXRF0.10.0010.0010.002

測量時(shí)間：1000秒  


XHEMIS TX-3000V規(guī)格

方法帶氣相分解 (VPD) 的全內(nèi)反射 X 射線熒光分析 (TXRF)
目的用于測量超痕量元素表面污染的
1E7 原子/cm2 檢測限繪圖速度
提高約 3 倍
技術(shù)集成自動(dòng) VPD 準(zhǔn)備、三光束激發(fā)和自動(dòng)光學(xué)交換
主要部件3 探測器配置
高功率 W 對(duì)陰極 X 射線源（9 kW 旋轉(zhuǎn)對(duì)陰極）
針對(duì)輕元素、過渡元素和重元素優(yōu)化的 3 種激發(fā)能量
XYθ 樣品臺(tái)
雙 FOUP 負(fù)載端口
特征全晶圓測繪 (SWEEPING-TXRF)
零邊緣排除 (ZEE-TXRF)
用于硅晶圓的集成自動(dòng) VPD 預(yù)處理 (VPD-TXRF)
雙 FOUP 裝載端口，實(shí)現(xiàn)最高靈敏度
選項(xiàng)背面分析 (BAC-TXRF)
GEM300 軟件、E84/OHT 支持
氣相處理以提高靈敏度，同時(shí)保留空間信息 (VPT-TXRF)
用于親水晶圓表面（例如 SiC）的 VPD
機(jī)身尺寸1280（寬）x 3750（深）x 2040（高）
（不含監(jiān)視器和信號(hào)塔）
測量結(jié)果定量結(jié)果、光譜圖、彩色等高線圖、映射表





































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