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日本ULVAC愛發(fā)科半導體間歇式真空沉積設備

參  考  價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產品型號EI系列

品       牌其他品牌

廠商性質經(jīng)銷商

所  在  地深圳市

更新時間:2024-11-25 11:17:28瀏覽次數(shù):164次

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應用領域 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,制藥,綜合
日本ULVAC愛發(fā)科半導體間EI系列歇式真空沉積設備
日本ULVAC愛發(fā)科半導體間歇式真空沉積設備

日本ULVAC愛發(fā)科半導體間歇式真空沉積設備

日本ULVAC愛發(fā)科半導體間歇式真空沉積設備


間歇式高真空蒸發(fā)設備EI系列

間歇式高真空蒸發(fā)設備ei系列是一種在基材上形成金屬和氧化物薄膜的設備。排氣作業(yè)及成膜作業(yè)可在操作面板的集中控制下自動進行,適合研究開發(fā)及小規(guī)模生產。


特征

  • 可配備各種蒸發(fā)源(EB、電阻、EB+電阻)

  • 根據(jù)工藝(升空、行星、衛(wèi)星等)的基材支架

  • 兼容Φ2英寸至6英寸基板、矩形基板、硅、化合物、玻璃和陶瓷基板。

  • 液晶觸摸屏集中顯示和操作

  • 使用 PC 的出色操作性和功能(配方功能、數(shù)據(jù)記錄、維護輔助功能)

目的

  • 功率器件等相關化合物

  • LED、LD、高速器件

  • 用于各種實驗

  • 其他一般電子零件



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