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NLD-5700日本ULVAC愛發(fā)科半導體光電干法刻蝕設備
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具體成交價以合同協(xié)議為準- NLD-5700 產(chǎn)品型號
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訪問次數(shù)：401更新時間：2024-11-25 14:29:55
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產(chǎn)品簡介
| 價格區(qū)間 | 面議 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,綜合 |
|---|
日本ULVAC愛發(fā)科半導體光電干法刻蝕設備
產(chǎn)品介紹
日本ULVAC愛發(fā)科半導體光電干法刻蝕設備
日本ULVAC愛發(fā)科半導體光電干法刻蝕設備
用于光電器件和MEMS的
干法刻蝕設備NLD-5700
用于光器件和MEMS的NLD-5700干法刻蝕系統(tǒng)是配備磁中性線等離子體（NLD）源的用于大規(guī)模生產(chǎn)的干法刻蝕系統(tǒng)。 （采用磁中性線等離子體（NLD）的低壓、低電子溫度、高密度等離子體的干式蝕刻設備，由ULVAC原創(chuàng)開發(fā)。）
特征
通過在潔凈室內(nèi)工作，潔凈室可以擴展到兩個房間（NLD、磁場ICP、CCP和灰化室）。
NLD是一種可以在空間和時間上控制的等離子體，因此干洗很容易。
實現(xiàn)輕松的腔室維護。
我們提供從掩模蝕刻到石英和玻璃蝕刻的工藝解決方案。
半導體技術研究院提供完善的工藝支持系統(tǒng)。
用途
光學器件（衍射光柵、調(diào)制器、光波導、光開關等）、不均勻微透鏡。
流體路徑創(chuàng)建 (μ-TAS) 和光子晶體。
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