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核心技術(shù)特性聲學性能與傳感器高精度麥克風：符合IEC61672Class1標準，頻率范圍10Hz~20kHz（可擴展至40kHz），精度±0.5dB（@94dB,1kHz）。動態(tài)范圍30~140dB，支持A/C/Z計權(quán)及線性（Lin）模式。頻譜分析：1/1倍頻程與1/3倍頻程實時分析（分辨率1Hz），F(xiàn)FT功能定位噪聲源特征頻率。選配模塊支持聲強探頭與聲陣列，用于三維聲源定位。智能化功能合規(guī)性評估：內(nèi)置ISO1996、GB3096（環(huán)境噪聲）、OSHA/NIOSH（職業(yè)暴露）標準，自動生成超標報
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HeidonEX系列防爆攪拌器是一款專為易燃易爆環(huán)境設(shè)計的高性能攪拌設(shè)備，廣泛應用于化工、制藥、石油及食品等行業(yè)。以下從核心技術(shù)特性、應用適配性及用戶體驗三個維度，全面解析其優(yōu)勢：1.核心技術(shù)特性防爆設(shè)計：符合ATEX、IECEx等國際防爆認證標準，適用于Zone1/Zone2危險區(qū)域，確保在易燃易爆環(huán)境中的安全運行。高效攪拌性能：采用無刷直流電機，轉(zhuǎn)速范圍50~2,000rpm（可調(diào)），扭矩輸出高達50N·m，滿足高粘度液體的攪拌需求。智能控制系統(tǒng)：內(nèi)置PID控制算法，支持轉(zhuǎn)速、扭矩、時間的精
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日本Heidon新東表面特性測量儀是一款專為表面粗糙度、輪廓形狀及微觀紋理分析設(shè)計的高精度測量設(shè)備，廣泛應用于精密制造、質(zhì)量控制及研發(fā)領(lǐng)域。以下從核心技術(shù)特性、應用適配性及用戶體驗三個維度，全面解析其優(yōu)勢：1.核心技術(shù)特性高精度測量能力：采用高分辨率探針與精密位移傳感器，實現(xiàn)表面粗糙度測量精度達±0.01μm，輪廓測量精度達±0.1μm，滿足微米級檢測需求。多參數(shù)測量功能：支持Ra、Rz、Rq、Ry等多種粗糙度參數(shù)測量，以及輪廓形狀、波紋度、臺階高度等復雜特征分析。寬范圍測量：測量范圍覆蓋0.0
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表面檢查燈是一款專為表面缺陷檢測設(shè)計的高性能照明設(shè)備，采用高亮度LED光源與精密光學設(shè)計，為工業(yè)檢測、質(zhì)量控制及精密制造提供照明支持。以下從核心技術(shù)特性、應用適配性及用戶體驗三個維度，全面解析其優(yōu)勢：1.核心技術(shù)特性高亮度均勻照明：采用高密度LED陣列與多層光學擴散技術(shù)，實現(xiàn)照度均勻性≥95%，有效消除傳統(tǒng)光源的中心亮斑與邊緣衰減現(xiàn)象。多角度配光模式：支持垂直直射（發(fā)散角±10°）、低角度斜射（5°~30°可調(diào)）及廣角漫射（發(fā)散角120°），通過機械旋鈕快速切換，適配鏡面、啞光及曲面等多材質(zhì)工件
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韓國Polarion公司推出的一款高性能便攜式強光燈，以其超高亮度、長續(xù)航能力與堅固耐用的設(shè)計，成為工業(yè)檢測、戶外作業(yè)及應急照明的理想選擇。以下從核心技術(shù)特性、應用適配性及用戶體驗三個維度，全面解析其優(yōu)勢：1.核心技術(shù)特性超高亮度輸出：采用高效HID（高強度氣體放電）光源，最大光通量可達40,000流明，照射距離超過1,500米，滿足遠距離、大范圍照明需求。寬光譜覆蓋：光源色溫為6,000K，接近自然日光，顯色指數(shù)（CRI）≥90，確保色彩還原真實，適用于精細作業(yè)與檢測場景。智能溫控系統(tǒng)：內(nèi)置溫
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條形光源是一種專為機器視覺設(shè)計的線型照明裝置，其核心原理是通過高密度LED陣列沿直線排列，配合光學透鏡或漫射板形成均勻的線性光束。采用直射、背光或側(cè)向照明等不同配光方式，可靈活適應被測物的表面特性。其中，準直透鏡可約束光束發(fā)散角度，漫射板則通過微結(jié)構(gòu)實現(xiàn)光強均勻化，特殊設(shè)計的反光腔體能提升光效利用率。該光源具備三大核心優(yōu)勢：首先，線狀光斑能精準覆蓋檢測區(qū)域，配合高均勻性（＞90%）特性，可有效突顯目標物的輪廓與表面紋理特征；其次，緊湊型結(jié)構(gòu)（典型寬度15-50mm）支持多角度安裝，通過亮度無極調(diào)
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我們于2016年5月成為OPTEX集團的成員，并正在擴大我們在工業(yè)LED照明領(lǐng)域的業(yè)務(wù)。自創(chuàng)業(yè)以來，本著“將光科學化，服務(wù)于社會”的企業(yè)理念，以生產(chǎn)現(xiàn)場質(zhì)量管理中使用的圖像處理檢查用LED光源為起點，廣泛開發(fā)了樹脂固化和曝光用UV照射器和面向美術(shù)館、博物館還有醫(yī)療和綜合生物的LED光源和設(shè)備。未來，我們將充分利用與OPTEX集團的合作與互動，創(chuàng)造并廣泛提供創(chuàng)新性的“對客戶有用的解決方案”。對于制造公司來說，我們將確立作為“重要解決方案供應商”的地位。日本CCS晰寫速光學(希希愛視）的主要產(chǎn)品有：
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半導體濺射是半導體制造中使用的一種薄膜形成技術(shù)。被等離子體電離的氣體撞擊一種稱為靶的材料，將微粒沉積到基質(zhì)上。噴射出的粒子以高能狀態(tài)到達基材，這使得它們更容易牢固地粘附在基材上。以金屬、氧化物等多種物質(zhì)為靶材，在半導體芯片的配線層、絕緣膜、保護膜等各種膜的形成中發(fā)揮著重要作用。與主要依賴化學反應的方法不同，濺射具有通過物理方式將材料供應到基材的特點。與氣相沉積相比，該方法的優(yōu)點是可以提供更高的薄膜附著力和均勻性，并且薄膜厚度的控制更容易且更穩(wěn)定。據(jù)稱，在需要精細圖案的半導體工藝中，更容易實現(xiàn)高再
