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目錄:牛津儀器(上海)有限公司>>ICPCVD>> PlasmaPro 80 ICPCVD

PlasmaPro 80 ICPCVD
  • PlasmaPro 80 ICPCVD
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更新時(shí)間：2022-11-30 17:47:31瀏覽次數(shù)：363評(píng)價(jià)

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PlasmaPro 80是一種結(jié)構(gòu)緊湊且使用方便的小型直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝性能。直開式設(shè)計(jì)可實(shí)現(xiàn)快速晶圓裝卸，是科學(xué)研究、原型設(shè)計(jì)和小批量生產(chǎn)的理想選擇。 它通過(guò)優(yōu)化的電極冷卻和出色的襯底溫度控制來(lái)實(shí)現(xiàn)高性能工藝。 詢價(jià) 增加到詢價(jià)列表 在詢價(jià)列表中查看此產(chǎn)品
  • III-V族刻蝕工藝
  • 硅 Bosch和超低溫刻蝕工藝
  • 類金剛石
  • 類金剛石（DLC）沉積
  • 二氧化硅和石英刻蝕
  • 用特殊配置的PlasmaPro FA設(shè)備進(jìn)行失效分析的干法刻蝕解剖逆工藝，可處理封裝好的芯片, 裸晶片，以及200mm晶圓
  • 高質(zhì)量PECVD沉積氮化硅和二氧化硅，用于光子學(xué)、電介質(zhì)層、鈍化以及諸多其它用途
  • 用于高亮度LED生產(chǎn)的硬掩模沉積和刻蝕
Deep Si feature etch by ICP-RIE cryo process
RIE of InP waveguide
7 μm polyimide feature RIE

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