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目錄:牛津儀器(上海)有限公司>>PECVD>> PlasmaPro 800 PECVD

PlasmaPro 800 PECVD
  • PlasmaPro 800 PECVD
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更新時間：2022-11-30 17:49:04瀏覽次數(shù)：368評價

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The PlasmaPro 800 offers a flexible solution for Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD) processes on large wafer batches and 300mm wafers, in a compact footprint, open-loading system. The large wafer platen allows for production scale batch processing and 300mm wafer handling. 詢價 增加到詢價列表 在詢價列表中查看此產(chǎn)品

PlasmaPro 800具有460mm直徑的工作臺，擁有處理整片的300mm晶圓或大批量43 x 50mm（2”）晶圓的能力， 可提供全套量產(chǎn)解決方案。PlasmaPro 800是的市場前列產(chǎn)品。

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