用VTC-200對銅箔的表面進(jìn)行涂膜

實(shí)驗(yàn)材料：厚度0.5㎜的銅箔、透明無機(jī)溶膠，實(shí)驗(yàn)樣品如圖1所示

 圖1 實(shí)驗(yàn)所用樣品圖

材料特性：銅箔質(zhì)軟，容易褶皺；透明無機(jī)溶膠具有較大的粘性，不易甩開。

實(shí)驗(yàn)?zāi)康模涸阢~箔表面涂覆一層厚度均勻的薄膜

實(shí)驗(yàn)設(shè)備：VTC-200真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)，實(shí)驗(yàn)所用設(shè)備如圖2所示：

VTC-200真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)

圖2 實(shí)驗(yàn)所用設(shè)備圖

實(shí)驗(yàn)所用設(shè)備特點(diǎn)：

      VTC-200真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)具有操作簡單、清理方便，體積小巧等優(yōu)點(diǎn)，可利用高速旋轉(zhuǎn)的吸盤使粘滯系數(shù)較大的膠體、溶液等材料均勻地涂覆在樣件表面。該機(jī)使用真空吸盤將樣品固定在載樣盤上，具有兩段程序控制速度。第一段程序?qū)⒃O(shè)備轉(zhuǎn)速設(shè)置在較低的范圍內(nèi)，在此轉(zhuǎn)數(shù)范圍內(nèi)設(shè)置一定的注膠時(shí)間對樣品進(jìn)行注膠；第二段程序注膠結(jié)束后涂膜機(jī)在最短時(shí)間內(nèi)提升轉(zhuǎn)數(shù)至第二段所設(shè)置的轉(zhuǎn)數(shù)進(jìn)行勻膠，在勻膠之前要對勻膠時(shí)間進(jìn)行設(shè)置，當(dāng)勻膠結(jié)束后機(jī)器自動(dòng)停止運(yùn)轉(zhuǎn)，涂膜的整個(gè)過程結(jié)束?？衫酶咚傩D(zhuǎn)的吸盤使粘滯系數(shù)較大的膠體、溶液等材料均勻地涂覆在樣件表面。

設(shè)備參數(shù)：

  時(shí)間設(shè)置范圍：1s-600s；轉(zhuǎn)速：500rpm-6000rpm；

  可設(shè)置兩步涂膜程序，轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性為±1%，使涂膜更加均勻。

  SPD1轉(zhuǎn)速：500-6000 rpm有效；T1時(shí)間：1--600s有效。

  SPD2轉(zhuǎn)速：500-6000 rpm有效；T2時(shí)間：1--600s有效。

  載樣盤直徑：φ150mm，適用于尺寸6英寸、8英寸樣片及其它尺寸樣片的涂膜。

實(shí)驗(yàn)過程：

      首先將5㎜厚的銅箔固定在1㎜厚的方形玻璃片上，然后將固定有銅箔的玻璃片放到吸盤中間的位置，放置玻璃片的時(shí)候盡量找好正中心，以免高速旋轉(zhuǎn)的過程中造成飛片。實(shí)驗(yàn)過程中為了設(shè)備清理方便可在機(jī)器腔體內(nèi)貼附一層塑料薄膜，試驗(yàn)后可直接撕下。放置帶有銅箔的玻璃片的設(shè)備如圖3所示，

圖3 放置基片的設(shè)備圖

      放置好試樣后對設(shè)備進(jìn)行程序設(shè)置，一段：SPD1  500rpm  T1  15s；二段：SPD1  1500rpm  T2  45s。設(shè)置好程序后將膠液擠出一定量到基片表面，然后蓋好上蓋，開啟設(shè)備對基片進(jìn)行涂膜。在第一段速度時(shí)，涂膜機(jī)在較低轉(zhuǎn)速下進(jìn)行勻膠，使膠液在基片表面鋪展開；在第二段速度時(shí)在較高旋轉(zhuǎn)速度下使基片表面的膠體迅速甩開，將多余的膠液甩倒基片外面，然后在基片表面形成具有一定厚度的薄膜。程序運(yùn)行結(jié)束后，將樣品移下并自然干燥，干燥后的試樣如圖4所示；

圖4 干燥后的試樣圖

        用肉眼可見，薄膜在基片表面均勻分布，若要了解試樣的確切厚度，可使用TFMS-IV型高精度反射膜厚儀對試樣表面厚度進(jìn)行測量。