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殘余應(yīng)力雙折射系統(tǒng)的產(chǎn)品主要特點(diǎn)
應(yīng)力雙折射測(cè)量系統(tǒng)(殘余應(yīng)力測(cè)量)可以在深紫外（193nm）波段進(jìn)行應(yīng)力雙折射探測(cè)。針對(duì)特定材料制作（氟化鈣）和特定形狀（非球面透鏡）的技術(shù)解決方案。
應(yīng)力雙折射測(cè)量系統(tǒng)，非球面透鏡應(yīng)力雙折射測(cè)量，應(yīng)力橢偏儀，應(yīng)力橢偏測(cè)量,殘余應(yīng)力測(cè)量
不規(guī)則非球面光學(xué)元件應(yīng)力分布測(cè)量系統(tǒng)（應(yīng)力雙折射測(cè)量系統(tǒng)）通過對(duì)光的調(diào)制解調(diào)可以測(cè)出待測(cè)光學(xué)元件中的雙折射大小和方向，這些數(shù)據(jù)同時(shí)也表示了應(yīng)力的大小和方向。這套不規(guī)則非球面光學(xué)元件應(yīng)力分布測(cè)量系統(tǒng)的傾斜，多角度入射掃描技術(shù)可以保證對(duì)非球面不規(guī)則的光學(xué)元件（光刻機(jī)透鏡等）有著的掃描測(cè)量解決方案。
應(yīng)力雙折射系統(tǒng)用于殘余應(yīng)力檢測(cè)。該應(yīng)力雙折射測(cè)量系統(tǒng)既可作為實(shí)驗(yàn)室科研探索測(cè)量光學(xué)組件應(yīng)力分布測(cè)量，也可用作諸如玻璃面板，透鏡，晶體，單晶硅/多晶硅、注塑成品等工業(yè)生產(chǎn)中檢測(cè)產(chǎn)品應(yīng)力分布。產(chǎn)品軟件直觀顯示待測(cè)樣品應(yīng)力情況，便于操作和日常監(jiān)測(cè)。
應(yīng)力雙折射系統(tǒng)(殘余應(yīng)力檢測(cè))可以根據(jù)客戶需求選擇設(shè)置，使得測(cè)量更有針對(duì)性（高精度/大范圍相位延遲量），系統(tǒng)有著*測(cè)量速度的同時(shí)也具有*的測(cè)量分辨能力（<1 mm grid spacing ），150AT應(yīng)力雙折射系統(tǒng)也提供傾斜位移平臺(tái)等設(shè)計(jì)來幫助客戶完成一些非常規(guī)掃描/測(cè)量需求。
產(chǎn)品特點(diǎn)：
1、自動(dòng)X/Y位移平臺(tái)掃描
2、臺(tái)式整機(jī)設(shè)計(jì)組裝
3、靈活位移平臺(tái)設(shè)計(jì)，滿足個(gè)性化定制需求
4、數(shù)據(jù)擬合分析功能和友好用戶界面
5、二維/三維圖形/參數(shù)表格顯示樣品應(yīng)力分布測(cè)量結(jié)果。
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