手機版
化工儀器網(wǎng)手機版
化工儀器網(wǎng)小程序
官方微信
公眾號：chem17
掃碼關注視頻號
隨著全球數(shù)字化轉(zhuǎn)型的加速，高性能芯片的需求日益增長，作為半導體制造中的關鍵設備之一，RIE半導體刻蝕機正迎來發(fā)展機遇。然而，在快速發(fā)展的同時，RIE半導體刻蝕機也面臨著諸多挑戰(zhàn)。
發(fā)展趨勢
1.市場規(guī)模持續(xù)擴大
近年來，RIE半導體刻蝕機市場規(guī)模持續(xù)擴大。據(jù)市場研究數(shù)據(jù)顯示，2022年全球RIE設備市場規(guī)模達到了58億美元，并預計到2027年將增長至82億美元，復合年增長率約為7%。這一增長主要得益于5G通信、人工智能、物聯(lián)網(wǎng)等新興領域?qū)ο冗M制程節(jié)點芯片需求的增加。
2.技術不斷進步
RIE技術的核心在于利用化學反應與物理轟擊相結合的方式進行材料刻蝕，能夠?qū)崿F(xiàn)微米至納米級別的超精準刻蝕。隨著技術的不斷進步，RIE設備的刻蝕精度和選擇性不斷提高，能夠滿足更復雜、更精細的半導體制造工藝需求。
3.應用領域廣泛拓展
除了傳統(tǒng)的邏輯芯片和存儲器生產(chǎn)外，RIE技術還被廣泛應用于新型顯示面板、太陽能電池板以及MEMS（微機電系統(tǒng)）產(chǎn)品的制造過程中。特別是在OLED柔性屏和MiniLED背光模組的開發(fā)中，RIE設備發(fā)揮了不可替代的作用。
面臨的挑戰(zhàn)
1.國際競爭加劇
在全球RIE設備市場中，主導廠商包括應用材料公司、東京電子有限公司和拉姆研究公司等。這些國際擁有先進的技術和強大的市場影響力，給國內(nèi)企業(yè)帶來了巨大的競爭壓力。
2.技術壁壘高
RIE技術涉及復雜的物理和化學過程，對設備的設計、制造和調(diào)試都有高要求。國內(nèi)企業(yè)在技術創(chuàng)新和自主研發(fā)方面還面臨諸多困難，需要加大研發(fā)投入，突破技術瓶頸。
3.國產(chǎn)化進程需加速
雖然中國政府高度重視半導體產(chǎn)業(yè)鏈的安全與發(fā)展，出臺了一系列政策措施鼓勵本土企業(yè)加強自主研發(fā)能力，但RIE反應離子刻蝕機行業(yè)的國產(chǎn)化率仍有待提高。國內(nèi)企業(yè)需加快技術創(chuàng)新和產(chǎn)業(yè)升級步伐，提升產(chǎn)品競爭力。
免責聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源：化工儀器網(wǎng)”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權或有權使用的作品，未經(jīng)本網(wǎng)授權不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權使用作品的，應在授權范圍內(nèi)使用，并注明“來源：化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者，本網(wǎng)將追究其相關法律責任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源（非化工儀器網(wǎng)）的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責，不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時，必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源，并自負版權等法律責任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權等問題，請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系，否則視為放棄相關權利。
采購中心