電鍍砝碼理論知識(shí)

電鍍砝碼理論知識(shí)

砝碼鉻鍍層的特征

1、鉻鍍層的物理性能及化學(xué)性能

鉻鍍層的顏色為略帶淺藍(lán)色的銀白色。鉻鍍層有優(yōu)秀的特征，比如，硬度高、耐熱、耐酸、耐堿、耐硫化物、耐有機(jī)酸、順磁、不變色;鉻鍍層的摩擦系數(shù)低，特別是干摩擦系數(shù)在所有金屬中是的，所以，鉻鍍層擁有很好的耐磨性;鉻鍍層與橡膠、膠木、塑料等非金屬資料黏附力差。所以，這種資料的模具采納電鍍鉻后簡(jiǎn)單脫模，且模具表面粗拙值越小，壓制產(chǎn)品的亮度越高、越雅觀，模具使用壽命也可提升。

2、鉻鍍層的硬度和應(yīng)力

在正常鍍鉻工藝條件下，鉻鍍層硬度為HRC55~HRC65和HV750~HV1200。電鍍鉻比由高溫治金法獲取的金屬鉻硬度高得多，最硬的鉻鍍層可達(dá)到剛玉的硬度，比其余的現(xiàn)有電鍍層硬度都高。比如，它是鐵、鈷和鎳硬度的 2倍左右。它的硬度比經(jīng)過(guò)滲碳、滲氮、碳氮共滲、硬化辦理的鋼以及經(jīng)過(guò)熱辦理的合金構(gòu)造鋼的硬度都高。電鍍時(shí)的氫、外來(lái)離子的性質(zhì)、內(nèi)應(yīng)力增添是鉻鍍層擁有高硬度的主要要素。資料抵擋硬物壓入表面的能力叫做硬度。在測(cè)定鍍層硬度時(shí)，常使用維氏硬度計(jì)，可依據(jù)鍍層厚度只要 5~ 200gf 的小壓荷使壓痕深度達(dá)到鍍層厚度的 1/7~ 1/10，在鍍層斷面上測(cè)定硬度時(shí)，能夠針對(duì)鍍層厚度選擇適合的壓荷， 測(cè)度方法相同， 測(cè)出的硬度偏差較小。 加厚鉻鍍層假如大于100m 時(shí)可采納洛氏硬度計(jì)，在非工作面長(zhǎng)進(jìn)行測(cè)定鉻鍍層硬度。這種方法測(cè)準(zhǔn)時(shí)能夠直接看出鉻鍍層的硬度，使用較方便。在電鍍過(guò)程中，因?yàn)楦鞣N原由惹起鍍層品體構(gòu)造的變化，常會(huì)使鍍層有伸長(zhǎng)或縮短的趨向，但因鍍層已被固定在基體上，促進(jìn)鍍層處于受力狀態(tài)，這種作用于鍍層單位面積的力稱(chēng)為內(nèi)應(yīng)力。在鍍鉻過(guò)程中應(yīng)力的產(chǎn)生，主假如電析應(yīng)力。鉻鍍層結(jié)協(xié)力很好，2940Mpa 以上的而在早期電析應(yīng)力特別大，能夠察看到張應(yīng)力，同時(shí)跟著鍍層的增厚其實(shí)不會(huì)轉(zhuǎn)變?yōu)閴簯?yīng)力，但這些都不影響鉻鍍層的結(jié)協(xié)力。所以鉻鍍層結(jié)協(xié)力差，主假如因?yàn)榛w表面潔凈工作沒(méi)有做好，而電析應(yīng)力不是致使結(jié)協(xié)力差的原由。

3、鉻鍍層的耐磨性

鉻鍍層因?yàn)橛衅涮貏e的構(gòu)造而形成很高的硬度，因?yàn)橛捕雀?，使耐性也提升。但鉻鍍層的耐磨性利害，不只是是硬度，還有金屬的延展性和彈性等也是耐磨性的決定要素。經(jīng)過(guò)試驗(yàn)以為鉻鍍層的維氏硬度為HV750~HV800 時(shí)擁有較大的耐磨性。鍍鉻層厚度與耐磨性有必定關(guān)系，同時(shí)對(duì)使用壽命也有直接的影響。使用壽命與厚度固然不完整成比例關(guān)系，可是厚度減小，使用壽命就會(huì)大大縮短。假如考慮表面耐性，則要示鉻鍍層厚度大于受沖擊的部件，鉻鍍層厚度不該小于15 μm。關(guān)于鋁合金的熱沖模，鍍鉻后能降低黏附性，以上壓模鉻鍍層厚度往常為10~20m。橡膠模具和塑料模具鉻鍍層厚度只需求3~5μm即可，橡膠模具和塑料模具經(jīng)鍍7.5 um。

對(duì)比是低的。砝碼鉻鍍層與鋼鐵資料的摩擦系數(shù)為

鍍鉻溶液的構(gòu)成

1、鉻酐(CrO3)(分子量:76)

鉻酐的水溶液是鉻酸，它是電解液的主要成分。因鍍鉻工藝采納不溶性陽(yáng)極，所以它是鉻層的來(lái)源。鍍硬鉻所用的電解液含鉻酐量一般在 200g~ 300g 之間，在標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻電解液中含鉻酐為250g ，此中大概含鉻 125gL 。

2、硫酸(H

SO)(分子量:66)當(dāng)有SO2-存在時(shí)，它與溶液內(nèi)的三價(jià)鉻生成復(fù)雜的含有硫酸和三價(jià)鉻的陽(yáng)離子團(tuán)這種陽(yáng)離子團(tuán)跑向陰極，促進(jìn)堿性鉻酸鉻「Cr(OH)3fCr40(50 4)·(H20)41離子能在陰極1的薄膜溶解，使.Cr(OH)CrOCrO上放電析出金屬鉻。

當(dāng)鍍鉻溶液的酸度為PH值為3時(shí)，能有堿式鉻酸鉻[Cr(OH)3·Cr(OH)CrO 4]的薄膜存在，沒(méi)有硫酸鹽該堿式鉻酸鉻的薄膜轉(zhuǎn)向陰極，并給它包上能透過(guò)氫離子的膠體薄膜。時(shí)，硫酸鹽的作用就是利用它的吸附作用，減低膠體的電流密度，防止在陰極上形成堅(jiān)固附著的膠體層。

所以，在陰極表面上，其余離子就有了復(fù)原的可能。假如純真考慮到負(fù)電荷的 SO42-與陰極表面互相作用，則難以相信 SO4-離子能抵達(dá)陰極表面。因?yàn)榱蛩岣?SO42-)離子的尺寸不而電荷高，所以簡(jiǎn)單被正電荷的膠體所汲取，并馬上與三價(jià)鉻生成綠色的而無(wú)反響能力的陽(yáng)離子團(tuán)[Cr4O(SO 4)4·(HO)4]2+，這種離子團(tuán)能經(jīng)過(guò)薄膜而不發(fā)生明顯變化，抵達(dá)陰極表面以后，離子放電，而硫酸根離子變?yōu)橛坞x狀態(tài)。生產(chǎn)實(shí)踐證明，為了獲取高質(zhì)量的鉻鍍層應(yīng)十分注意鍍液中的鉻酐與催化劑的濃度比，而關(guān)于催化劑絕對(duì)含量相對(duì)而言其實(shí)不那么重要。當(dāng)[CrO3]/[SO42-]為100:1 時(shí)，電流大。當(dāng)[CrO3]/[SO42-]小于 100:1時(shí)，鍍層的光明性和致密性有所提升。但鍍液的電流效率和分別能力下降。當(dāng)[CrO31TSO4--1小于或等于 50:1時(shí)，因?yàn)榇呋瘎┖科撸?使陰極膠體膜的溶解速度大于生成速度,陰極電勢(shì)達(dá)不到鉻的析出電勢(shì)，致使局部以致所有沒(méi)有鉻的堆積，鍍液的電流效率降低，分別能力明顯惡ICrO 342-化，并且鍍液顏色變暗，陰極鄰近產(chǎn)生渺小的氫氣泡;當(dāng)]大于 100:1 時(shí)， SO 42含量不足,V/ISO200:1，SO42-含量嚴(yán)重不足，在鍍層上會(huì)產(chǎn)生黑色條紋,鍍層的光明性鍍液的電流效率降低;若比值超出銘鍍層表面會(huì)出現(xiàn)粗拙的小顆粒，光彩性差，鍍液顏色也會(huì)變淡，陰極鄰近將產(chǎn)生大批氫氣泡，并會(huì)產(chǎn)生剝落現(xiàn)象。因?yàn)镾O4-含量太低，陰極表面上只有極少部位的膜被溶解，即成膜的速度大于溶解的速度，鉻的析出受阻或在局部地域放電長(zhǎng)大，所以獲取的鍍層粗拙。

3、氟硅酸鈉(Na 2SiF6)(分子量:188)

氟硅酸根離子在電鍍過(guò)程中起著與硫酸根離子相像的作用，但氟硅酸根離子還有其獨(dú)到長(zhǎng)處。比如，鉻鍍層簡(jiǎn)單鈍化，常常在鍍鉻過(guò)程中電流中止或進(jìn)行二次鍍鉻時(shí)，所獲取的鍍層為乳白色而無(wú)光彩:而有氟硅酸根離子存在時(shí)，所獲取的鉻鍍是光明的，因?yàn)樗鼡碛惺广t鍍層表面活化的作用。采納含氟硅酸根離子的鍍液比標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻溶液優(yōu)勝，當(dāng)鍍液溫度在士 5℃時(shí)，相同能獲取光彩仔細(xì)的鉻鍍層，并且比標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻溶液所獲取鉻鍍層光彩雅觀，為帶有淺藍(lán)銀白色的光明鉻鍍層。程正常進(jìn)行。電解液的分別能力很低，不易獲取平均的鍍層。要想等到厚度平均的鍍層,，一定采納適合的夾具、象形陽(yáng)極、協(xié)助陰極或絕緣障蔽等舉措。20A/dm 2以上;鍍鉻槽電壓較高，往常6~ 12V 。

4、鍍鉻使用的電流密度很高，電流密度常在

5、鍍鉻電解液的電流效率較低，一般鍍鉻電解液的電流效率在20% 左右。

6、陽(yáng)極采納鉛、鉛一銻合金或鉛一錫合金等做不溶性陽(yáng)極，不可以用金屬鉻作陽(yáng)極。

7、工藝參數(shù)對(duì)鍍鉻層性質(zhì)有影響，采納不一樣的電流密度和溫度，可獲取不一樣性質(zhì)的鍍鉻層。鍍鉻過(guò)程還有三個(gè)特別現(xiàn)象:陰極電流效率隨鉻酸濃度的高升而降落，降溫度高升而降落，隨陰極電流密度的高升而高升。