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in-line磁控濺射系統(tǒng)

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in-line磁控濺射系統(tǒng)

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真空應(yīng)用設(shè)備、真空獲得設(shè)備、太陽能光伏裝備、工業(yè)化產(chǎn)品

產(chǎn)地類別 國產(chǎn)

設(shè)備用途

in-line磁控濺射系統(tǒng)用于在晶體硅表面沉積金屬薄膜(Al、Ag、Ni、Cu、Ti、Pd等),并能夠?qū)崿F(xiàn)反應(yīng)濺射,磁控濺射系統(tǒng)可完成高、低真空下磁控濺射鍍膜工藝,磁控濺射系統(tǒng)具備較大尺寸和多種尺寸規(guī)格的晶體硅光伏電池薄膜的連續(xù)制備能力。

設(shè)備組成

in-line磁控濺射系統(tǒng)主要由進(jìn)樣室、濺射室、出樣室、基片傳遞機(jī)構(gòu)、抽氣及真空測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。此外,該系統(tǒng)升級(jí)后,磁控濺射系統(tǒng)可達(dá)到5室結(jié)構(gòu)(進(jìn)樣室、三個(gè)獨(dú)立的濺射室、出樣室;增加射頻電源,提供制備介質(zhì)膜的功能,并能實(shí)現(xiàn)連續(xù)鍍膜)。



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