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L2001 勻膠旋涂儀

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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企業(yè)歷程 :

◆ 2006 年,在美國加州洛杉磯注冊成立賽福國際集團(tuán)有限公司(CIF International Group Co.,Ltd)。成立之初是一 家面向大學(xué)科研院所銷售儀器設(shè)備的供應(yīng)商。

◆ 2008 年, 自主研發(fā)生產(chǎn)石墨電熱板以來, 先后研發(fā)生產(chǎn)酸蒸逆流清洗器、酸純化器、智能消解儀等理化實(shí)驗(yàn)儀器設(shè)備, 從此走上研發(fā)生產(chǎn)專業(yè)化道路。

◆ 2010 年,掌握了等離子核心技術(shù),自主研發(fā)生產(chǎn)科研型等離子清洗機(jī)系列產(chǎn)品。

◆ 2014 年, 在中國注冊成立華儀行(北京) 科技有限公司, 正式進(jìn)入中國市場, 部分儀器設(shè)備研發(fā)、制造業(yè)務(wù)移至中國。

◆ 2015 年,自主研發(fā)生產(chǎn)專為處理粉體樣品而設(shè)計(jì)轉(zhuǎn)瓶等離子清洗機(jī)。

◆ 2017 年,自主研發(fā)生產(chǎn)紫外臭氧清洗機(jī)系列產(chǎn)品。

◆ 2018 年,在中國成注冊立賽福儀器承德有限公司,將研發(fā)制造業(yè)務(wù)全部移至中國。

◆ 2019 年,電鏡專用遠(yuǎn)程等離子清洗機(jī)研發(fā)成功。

◆ 2021 年,自主研發(fā)生產(chǎn)中試、生產(chǎn)型等離子清洗系列產(chǎn)品,完善了等離子產(chǎn)品線。

◆ 2023 年,科研型等離子去膠機(jī)、RIE 蝕刻機(jī)研發(fā)成功。


公司專注材料表面處理技術(shù):

◆ 改性(等離子清洗機(jī)、紫外臭氧清洗機(jī))                   ◆ 去膠(等離子去膠機(jī))

◆ 蝕刻(等離子刻蝕機(jī))                                              ◆ 涂層(等離子濺射鍍膜機(jī)、勻膠機(jī)、烤膠機(jī))

企業(yè)愿景:

致力于為全球用戶提供專業(yè)的表面處理整體解決方案。

企業(yè)使命:

CIF與我們的員工、客戶乃至商業(yè)伙伴在內(nèi)的所有人,同呼吸,共命運(yùn),共同成長,共同發(fā)展,共同成就夢想!


半導(dǎo)體領(lǐng)域儀器設(shè)備:等離子清洗機(jī)、紫外臭氧清洗機(jī)、勻膠機(jī)、烤膠機(jī)等。 理化實(shí)驗(yàn)室儀器設(shè)備:酸蒸逆流清洗器、真空趕酸系統(tǒng)、酸純化器、智能消解儀、恒溫電熱板等

產(chǎn)地類別 進(jìn)口 價(jià)格區(qū)間 5萬-10萬
應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,食品,化工,農(nóng)業(yè)

  英國Ossila公司勻膠旋涂儀,操作簡單,方便實(shí)用,旋涂均勻,結(jié)構(gòu)小巧緊湊,為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案,其采用創(chuàng)新設(shè)計(jì)的非真空卡盤式旋涂吸盤,無需真空泵或充氮?dú)猓湍苓_(dá)到很好的旋涂效果。勻膠旋涂儀可對大小不同規(guī)格的基材都可進(jìn)行旋涂,尤其是對超薄樣品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時(shí)同樣能達(dá)到旋涂效果。不會出現(xiàn)真空吸盤旋涂較薄的基材襯底翹曲現(xiàn)象,影響涂層的均勻性。勻膠旋涂儀廣泛應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體、制版、新能源、生物材料、光學(xué)及表面涂覆等工藝。

  Ossila勻膠旋涂儀控制和顯示:

  1.非常方便設(shè)定處理速度和加速度程序段;可設(shè)置順序循環(huán)控制;

  2.顯示精度控制在設(shè)定值的0.006%以內(nèi)

  3.操作者可隨時(shí)隨地自由實(shí)現(xiàn)人機(jī)交互;

  設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)進(jìn)程中,可隨意向前,向后或者往返跳躍操作步驟;

  循環(huán)指令,并可以重復(fù)操作;

  在運(yùn)轉(zhuǎn)模式下也可以實(shí)時(shí)改變速度和加速度;

  包含PC程序端接口;

  可視化操作模型(化學(xué)試劑,傳感器所見即所得的操作界面);

  故障報(bào)警裝置(可形象顯明故障發(fā)生位置)。

勻膠旋涂儀技術(shù)性能

  • 可在手套箱和通風(fēng)廚內(nèi)使用,基座面積僅為22.5x17cm。
  • 無需真空泵、充氮?dú)猓?jié)省保養(yǎng)維護(hù)費(fèi)用。
  • 創(chuàng)新設(shè)計(jì)非真空卡盤式吸盤,基材只需放置在卡盤式旋涂托盤適當(dāng)位置,無需抽真空,就能達(dá)到旋涂效果。
  • 耐酸堿防腐蝕FEP覆膜操作界面,堅(jiān)固的不銹鋼外殼,鋼化的玻璃蓋和耐酸堿防腐蝕的襯墊和聚丙烯材質(zhì)旋涂托盤,使得在各種苛刻條件下仍能保證儀器正常運(yùn)行。
  • 勻膠旋涂儀采用液晶顯示+按鍵操作控制界面。智能程序化控制,10個(gè)用戶自定義協(xié)議,每個(gè)協(xié)議下可設(shè)置10個(gè)程序,每個(gè)程序多50個(gè)步驟。
  • 內(nèi)置水平校準(zhǔn)裝置,大限度的保證旋涂均勻,可對大小不同規(guī)格的基片進(jìn)行旋涂。
  • 電磁安全開關(guān),蓋子打開卡盤停止,保證運(yùn)行安全。
  • 轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性<2%。
  • 轉(zhuǎn)速120-6000rpm。
  • 定時(shí)器1-1000秒。
  • 電源DC24V、2A, 使用100-240V 50/60Hz電源適配器。
  • 尺寸220x170x132mm。
  • 左:普通旋涂機(jī)上有真空密封環(huán)形印跡     右:Ossila非真空式旋涂效果


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