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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導體行業(yè)專用儀器>光刻及涂膠顯影設(shè)備>勻膠機>L20001 英國Ossila-Spin Coater

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L20001 英國Ossila-Spin Coater

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 華儀行(北京)科技有限公司
  • 品牌 Ossila/歐西拉
  • 型號 L20001
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2024/10/25 15:35:55
  • 訪問次數(shù) 2542

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企業(yè)歷程 :

◆ 2006 年,在美國加州洛杉磯注冊成立賽福國際集團有限公司(CIF International Group Co.,Ltd)。成立之初是一 家面向大學科研院所銷售儀器設(shè)備的供應商。

◆ 2008 年, 自主研發(fā)生產(chǎn)石墨電熱板以來, 先后研發(fā)生產(chǎn)酸蒸逆流清洗器、酸純化器、智能消解儀等理化實驗儀器設(shè)備, 從此走上研發(fā)生產(chǎn)專業(yè)化道路。

◆ 2010 年,掌握了等離子核心技術(shù),自主研發(fā)生產(chǎn)科研型等離子清洗機系列產(chǎn)品。

◆ 2014 年, 在中國注冊成立華儀行(北京) 科技有限公司, 正式進入中國市場, 部分儀器設(shè)備研發(fā)、制造業(yè)務移至中國。

◆ 2015 年,自主研發(fā)生產(chǎn)專為處理粉體樣品而設(shè)計轉(zhuǎn)瓶等離子清洗機。

◆ 2017 年,自主研發(fā)生產(chǎn)紫外臭氧清洗機系列產(chǎn)品。

◆ 2018 年,在中國成注冊立賽福儀器承德有限公司,將研發(fā)制造業(yè)務全部移至中國。

◆ 2019 年,電鏡專用遠程等離子清洗機研發(fā)成功。

◆ 2021 年,自主研發(fā)生產(chǎn)中試、生產(chǎn)型等離子清洗系列產(chǎn)品,完善了等離子產(chǎn)品線。

◆ 2023 年,科研型等離子去膠機、RIE 蝕刻機研發(fā)成功。


公司專注材料表面處理技術(shù):

◆ 改性(等離子清洗機、紫外臭氧清洗機)                   ◆ 去膠(等離子去膠機)

◆ 蝕刻(等離子刻蝕機)                                              ◆ 涂層(等離子濺射鍍膜機、勻膠機、烤膠機)

企業(yè)愿景:

致力于為全球用戶提供專業(yè)的表面處理整體解決方案。

企業(yè)使命:

CIF與我們的員工、客戶乃至商業(yè)伙伴在內(nèi)的所有人,同呼吸,共命運,共同成長,共同發(fā)展,共同成就夢想!


半導體領(lǐng)域儀器設(shè)備:等離子清洗機、紫外臭氧清洗機、勻膠機、烤膠機等。 理化實驗室儀器設(shè)備:酸蒸逆流清洗器、真空趕酸系統(tǒng)、酸純化器、智能消解儀、恒溫電熱板等

產(chǎn)地類別 進口 價格區(qū)間 5萬-10萬
應用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,食品,生物產(chǎn)業(yè),農(nóng)業(yè)

英國Ossila-Spin Coater

 

Spin Coater技術(shù)性能

  • 可在手套箱和通風廚內(nèi)使用,基座面積僅為22.5x17cm。
  • 無需真空泵、充氮氣,節(jié)省保養(yǎng)維護費用。
  • 創(chuàng)新設(shè)計非真空卡盤式吸盤,基材只需放置在卡盤式旋涂托盤適當位置,無需抽真空,就能達到較好的旋涂效果。
  • 耐酸堿防腐蝕FEP覆膜操作界面,堅固的不銹鋼外殼,鋼化的玻璃蓋和耐酸堿防腐蝕的襯墊和聚丙烯材質(zhì)旋涂托盤,使得在各種苛刻條件下仍能保證儀器正常運行。
  • 采用液晶顯示+按鍵操作控制界面。智能程序化控制,10個用戶自定義協(xié)議,每個協(xié)議下可設(shè)置10個程序,每個程序多50個步驟。
  • 內(nèi)置水平校準裝置,大限度的保證旋涂均勻,可對大小不同規(guī)格的基片進行旋涂。
  • 電磁安全開關(guān),蓋子打開卡盤停止,保證運行安全。
  • 轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性<2%。
  • 轉(zhuǎn)速120-6000rpm。
  • 定時器1-1000秒。
  • 電源DC24V、2A, 使用100-240V 50/60Hz電源適配器。
  • 尺寸220x170x132mm。
  Spin Coater用于晶片基底材料的表面光刻膠涂覆。勻膠機由樣品臺、滴膠裝置和空心電動機組成,其工作原理是,通過在樣品臺上產(chǎn)生負壓將需要旋涂的基底材料吸附在樣品臺上,光刻膠液滴注在基底材料的表面,通過準確控制電動機的旋轉(zhuǎn)速度,以此來改變離心力的大小,同時通過控制膠液的流量來達到制備薄膜所需的厚度。

 

Spin Coater

 

  勻膠機在旋涂過程中會出現(xiàn)邊緣效應,這是由于在旋涂的過程中溶劑的揮發(fā)導致表面和邊界處光刻膠的濃度和黏度都增大,從而引起邊緣位置較中心位置要厚一些,因此基片邊緣需要經(jīng)過去邊處理。去邊處理包括基片正面和背面的化學去邊處理,以及基片正面的光學去邊處理。
  Spin Coater動態(tài)滴膠是指基片在旋轉(zhuǎn)的過程中將光刻膠滴注到基片的中心位置,通常旋轉(zhuǎn)速度不宜過快( 500/min),動態(tài)滴膠可以在保證快速地在基片表面將光刻膠鋪開的前提下,減少針孔的產(chǎn)生,也可減少光刻膠的使用量。

  • 左:普通旋涂機上有真空密封環(huán)形印跡     右:Ossila非真空式旋涂效果


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