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Fiji G2 Plasma ALD 維易科 全自動原子層沉積系統(tǒng)（ALD）
- 公司名稱 香港電子器材有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 Fiji G2 Plasma ALD 維易科
- 產(chǎn)地 美國
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時間 2020/9/21 11:46:34
- 訪問次數(shù) 807
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美國普林斯頓CCD、光譜儀，加拿大Sciencetech太陽能模擬器、BNC延遲脈沖器、Gentec光電探測器、海洋光學(xué)光譜產(chǎn)品、半導(dǎo)體前道產(chǎn)品、Crystalaser激光器、EOS紅外探測器、半導(dǎo)體后道產(chǎn)品
| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子,航天 |
全自動原子層沉積系統(tǒng)(ALD)
Veeco(之前稱之為Cambridge Nanotech)已經(jīng)有15年以上的ALD研發(fā)生產(chǎn)經(jīng)驗。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大學(xué)，05年搬到Boston并生產(chǎn)出Thermal ALD - Savannah, 之后生產(chǎn)出Plasam ALD - Fuji、批量生產(chǎn)ALD-Phoenix。2017年被Veeco收購，并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今為止，Veeco在ALD設(shè)備已有15年多的經(jīng)驗，已安裝五百多臺ALD設(shè)備。
方式: Plasma & Thermal ALD
優(yōu)勢: 標(biāo)準(zhǔn)自動加載鎖定集成、加熱、薄箔ALD trap
反應(yīng)腔體大小: 可達(dá)200 mm
設(shè)備尺寸: 1845 x 715 x 1920 mm
操作模式: 連續(xù)模式(傳統(tǒng)Thermal ALD) 曝光模式(超高深寬比) 等離子體模式(等離子體加強(qiáng)ALD)
功率: 220-240 VAC, 4200 W per reactor (不包含泵)
ZG溫度: 標(biāo)準(zhǔn)200mm襯底加熱至500°C / 可選100mm襯底加熱至800°C
沉積均一性: 1σ均一性 / Thermal Al2O3 -1.5%, Plasma Al2O3 -1.5%循環(huán)時間: <2s per cycle with Al2O3 at 200°C
兼容: 標(biāo)準(zhǔn)四端口，可增加至六端口。每一個源瓶均可放固態(tài)/液態(tài)/氣態(tài)前驅(qū)體，可獨(dú)立加熱至200°C
閥門: 工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)ALD閥門(小響應(yīng)10ms)
前驅(qū)體源瓶: 50cc(多填充25ml)不銹鋼氣瓶
原位分析選項: H2S兼容配件, 原位QCM, 原位橢便儀, RGA端口, 光發(fā)射光譜儀, 樣品高度高達(dá)57mm的晶圓
臭氧發(fā)生器, LVPD, 集成手套箱, 襯底偏壓
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