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C2GR16-立式氣相沉積爐PX 2640
FPSEM-ICP200D等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)PX 4497
金屬有機化合物化學氣相沉積鍍膜設備PX 2917
C2GR16-氣相沉積爐PX 2817
CC-200日本ULVAC愛發(fā)科半導體化學氣相沉積設備PX 4072
GS-30-700廣樹CVD化學氣相沉積碳鍍膜機PX 3793
ICP-500D薄膜沉積CVDPX 3385
線列式PECVD高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積系統(tǒng)PX 1900
微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3307
TF-1200-PECVD等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)PX 2480
MFC-5ZCVD化學氣相沉積多通道質量流量控制系統(tǒng)PX 3856
CVD化學氣相沉積裝置PX 3047
CYRANNUS微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3222
FL-800N低溫化學氣相沉積冷卻系統(tǒng)-試驗用冷水機PX 7064
NPE-3500 PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3470
ZT-60-15立式化學氣相沉積爐PX 3986
等離子體化學氣相沉積設備PX 2281
轉移多壁碳納米管垂直陣列(化學氣相沉積法)PX 4162
Trion Orion HDCVDTrion Orion HDCVD高密度化學氣相沉積系統(tǒng)PX 2456
TF1200-PECVD型等離子增強化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3901
WBMW-DLZ3巨源實驗室常用微波等離子體化學氣相沉積PX 0
CY-PECVD50-1200-Q三溫區(qū)PECVD氣相沉積石墨烯制備PX 0
CY-PECVD100-1200-QPECVD氣相沉積PX 0
CY-PECVD100-1200-QCVD化學氣相沉積系統(tǒng)PX 0
CY-PECVD-240T-SS等離子增強化學氣相沉積設備PX 0
等離子體增強化學氣相沉積鍍膜系統(tǒng)PX 2917
金屬有機化學氣相沉積鍍膜系統(tǒng)(MOCVD)PX 2917
PECVD+RIE等離子體增強化學氣相沉積設備PX 2917
CME-200E/400日本ULVAC愛發(fā)科半導設備化學氣相沉積設備PX 4072
WBMW-QXCJ4任氏巨源實驗室常用微波化學氣相沉積系統(tǒng)PX 0
GS-30-700(廣樹)高溫化學氣相沉積碳鍍膜機PX 3793
ICP-500DICP等離子沉積系統(tǒng)-SI 500DPX 3385
Cluster PECVD高真空等離子體增強化學氣相薄膜沉積系統(tǒng)PX 1900
customized低壓化學氣相沉積系統(tǒng)LPCVDPX 1900
customized等離子增強化學氣相沉積PECVDPX 1900
customized化學氣相沉積MOCVDPX 1900
PD-200STL等離子體增強型CVD系統(tǒng)PX 1900
PD-270STLC等離子體增強CVD系統(tǒng)PX 1900
PD-100ST等離子體增強CVD系統(tǒng)PX 1900
PlasmaPro 80 PECVD等離子增強化學氣相沉積PECVDPX 1900
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