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Compact ALD臺(tái)式原子層沉積鍍膜系統(tǒng)PX 2879
GM100/1000粉末原子層沉積設(shè)備PX 2677
PICOSUN R-200標(biāo)準(zhǔn)型ALD系統(tǒng)PX 1550
SAL1000G原子層沉積系統(tǒng)PX 3350
氣相液相儀華粵行IVF顯微操作胚胎移植PX 1559
PICOSUN ALD R-300PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)ALD R-300高級(jí)版PX 3380
TFS 200原子層沉積研究設(shè)備PX 1950
NLD-3500(M)原子層沉積系統(tǒng)PX 3099
便攜式樣品傳送腔體PX 4007
AT-600原子層沉積系統(tǒng)PX 3655
P 系列粉末原子層沉積系統(tǒng)PX 3307
ALD R-200原子層沉積系統(tǒng)PX 3016
VE-2012日本shinkuu真空簡(jiǎn)單的真空氣相沉積系統(tǒng)PX 4870
Partector 2納米顆粒探測(cè)器-氣溶膠設(shè)備(德國(guó))PX 2879
磁控濺射鍍膜機(jī)PX 2879
微波等離子體輔助原子層沉積系統(tǒng)PX 0
超高真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)PX 2879
等離子體增強(qiáng)原子層沉積鍍膜系統(tǒng)PX 2879
AT 200M迷你原子層沉積系統(tǒng)-可放入手套箱PX 1550
原子團(tuán)簇束流系統(tǒng)桌面式PX 0
工業(yè)半導(dǎo)體微納加工二維材料實(shí)驗(yàn)室設(shè)備PX 1559
PE鉑金埃爾默ICPMSPX 1559
氣相沉積光刻機(jī)刻蝕機(jī)磁控濺射PX 1559
便攜式樣品傳送腔體沉積系統(tǒng)PX 1559
4/6英寸輻射式樣品臺(tái)系統(tǒng)PX 1559
插拔式加熱器沉積系統(tǒng)PX 1559
脈沖激光沉積樣品臺(tái)PX 1559
脈沖激光沉積靶臺(tái)PX 1559
脈沖激光沉積系統(tǒng)激光光路PX 1559
單腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)PX 1559
雙腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)PX 1559
電漿原子層沉積設(shè)備PX 1559
原子層沉積設(shè)備2PX 1559
原子層沉積系統(tǒng)PX 1559
批量式電漿輔助氣相沉積設(shè)備PX 1559
FPD-PECVD 電漿輔助化學(xué)氣相沉積PX 1559
感應(yīng)耦合電漿化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 1559
低真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 1559
電漿輔助式化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 1559
化學(xué)氣相沉積PX 1559
薄膜生長(zhǎng)設(shè)備
工藝測(cè)量和檢測(cè)設(shè)備
集成電路測(cè)試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長(zhǎng)設(shè)備
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其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
迷你原子層沉積系統(tǒng)-可放入手套箱
氣相液相儀華粵行IVF顯微操作胚胎移植
工業(yè)半導(dǎo)體微納加工二維材料實(shí)驗(yàn)室設(shè)備
PE鉑金埃爾默ICPMS
氣相沉積光刻機(jī)刻蝕機(jī)磁控濺射
原子層沉積ALD
等離子增強(qiáng)原子層沉積PEALD
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賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
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