SU8 3025 3050 3075 MicroChem SU8 3000光刻膠

特征

•提高附著力

         •降低涂層應力

•高縱橫比成像

          •垂直側(cè)壁

          •單層涂膜厚度大于100mm

           •出色的抗干蝕刻性

SU-8 3000抗蝕劑經(jīng)過專門設計，可與MicroChem的SU-8顯影劑一起用于浸漬，噴涂或噴漿工藝。 也可以使用其他基于溶劑的顯影劑，例如乳酸乙酯和雙丙酮醇。 對于高縱橫比和/或厚膜結(jié)構，也建議強烈攪拌。 表6中給出了浸入過程的建議顯影時間。這些顯影時間是近似的，因為實際溶解速度會隨著攪拌而變化很大。

SU-8 3000具有良好的機械性能。 但是，對于要保留成像的抗蝕劑作為終設備一部分的應用，可以在加熱板上或?qū)α骺鞠渲性?50-200°C之間將抗蝕劑進行坡道/分步硬烘烤，以進一步使材料交聯(lián)。 烘烤時間根據(jù)烘烤過程的類型和膜厚的不同而不同。