凱迪拉克配件等離子表面處理器價(jià)格

自動(dòng)On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)CRF-APO-500W-C/W-S

名稱（Name）

自動(dòng)On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)

型號(hào)（Model）

CRF-APO-500W-C/W-S

電源（Power supply）

220V/AC,50/60Hz

等離子功率（Plasma power）

2set*600W/25KHz（Option）

處理寬幅（Processing width）

500mm（Option）

有效處理高度（Processing   height）

5-15mm

處理速度（Processing speed）

0-5m/min

傳動(dòng)方式（Drive mode）

防靜電絕緣傳送帶（Antistatic insulating conveyer）

防靜電絕緣滾輪（Antistatic insulation wheel）

噴頭數(shù)量（Number）

2（Option）

工作氣體（Gas）

Compressed Air（0.4mpa）

自動(dòng)化裝置（Automation device）

全自動(dòng)上下料（Automatic loading and unloading）

產(chǎn)品特點(diǎn)： 帶有自動(dòng)上下料裝置，實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)化生產(chǎn)，設(shè)備優(yōu)化升級(jí)，節(jié)省人工，降低成本；

配置PLC+觸摸屏控制方式，采用精準(zhǔn)運(yùn)動(dòng)模組，操作簡(jiǎn)便；

可選配噴頭數(shù)量，滿足客戶多元化需求；

配置專業(yè)集塵系統(tǒng)，保證產(chǎn)品品質(zhì)和設(shè)備的整潔、干凈。

應(yīng)用范圍：主要應(yīng)用于電子行業(yè)的手機(jī)殼印刷、涂覆、點(diǎn)膠等前處理，手機(jī)屏幕的表面處理；工業(yè)的航空航天電連接器表面清洗；通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。
 

銅引線框架與實(shí)料盒因等離子處理后有哪些影響呢

等離子體清洗的機(jī)理，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機(jī)理來(lái)看，等離子體清洗通常包括以下過(guò)程：無(wú)機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài)；氣相物質(zhì)被吸附在固體表面；被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子解析形成氣相；反應(yīng)殘余物脫離表面。
等離子清洗機(jī)真空度關(guān)聯(lián)因素包括真空腔體漏率、背底真空、真空泵的抽速和工藝氣體的進(jìn)氣流量等。真空泵抽速越快，背底真空值越低，說(shuō)明里面殘留的空氣就越少，銅支架與空氣里面的氧等離子體反應(yīng)的機(jī)會(huì)就會(huì)越少;當(dāng)工藝氣體進(jìn)入，形成的等離子體可以充分地與銅支架發(fā)生反應(yīng)，沒(méi)有被激發(fā)的工藝氣體可以把反應(yīng)物輕松帶走，銅支架清洗效果會(huì)好，不容易變色。

為保證銅引線框架即銅支架在打線和封塑時(shí)可靠性，提升良率，通常會(huì)使用等離子清洗機(jī)對(duì)銅支架進(jìn)行等離子清洗，其等離子處理的效果受多重因素影響，以往大家關(guān)注會(huì)集中在銅支架自身以及所選用的等離子清洗機(jī)設(shè)備及參數(shù)。但其實(shí)料盒本身的幾方面因素也會(huì)對(duì)等離子處理的效果有不小的影響。
1、規(guī)格尺寸
不同規(guī)格尺寸的銅引線框架所對(duì)應(yīng)使用的料盒尺寸也是不同的，而料盒尺寸對(duì)等離子清洗處理的效果有一定關(guān)系，通常來(lái)說(shuō)，料盒的尺寸越大，等離子體進(jìn)入料盒內(nèi)部的時(shí)間就會(huì)越長(zhǎng)，對(duì)等離子處理的均勻性及效果有所影響。
2）間距大小
這里所談及的間距主要是指每層銅引線框架之間的距離，間距越小，等離子清洗銅引線框架的效果和均勻性會(huì)相應(yīng)地變差。
3）槽孔特點(diǎn)
將銅引線框架放入料盒進(jìn)行等離子清洗處理，假如四面不開槽，就會(huì)形成遮擋，等離子體很難進(jìn)入，影響處理的效果，與此同時(shí)還需要的是屏蔽效應(yīng)、開槽孔的位置、槽孔大小。
此外，料盒的蓋子是不是要蓋，以及什么時(shí)候蓋，這些都對(duì)等離子清洗效果有影響。等離子清洗機(jī)電源功率關(guān)聯(lián)因素包括能量功率大小和單位功率密度。電源功率越大，等離子體能量就越高，對(duì)銅支架的表面轟擊力就越強(qiáng);同等功率的情況下，處理的銅支架越少，單位功率密度就會(huì)越大，清洗的效果就會(huì)越好，但有可能會(huì)造成能量過(guò)大，板面變色或者燒板。等離子清洗機(jī)的等離子電場(chǎng)分布關(guān)聯(lián)因素包括電極結(jié)構(gòu)、氣體流向和銅支架的擺放位置等相關(guān)。不同處理材料、工藝需要以及產(chǎn)能要求，對(duì)電極結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)是不一樣的;因此氣體流向會(huì)形成一個(gè)氣場(chǎng)，對(duì)等離子體的運(yùn)動(dòng)、反應(yīng)、均勻性都會(huì)有影響;銅支架的擺放位置，會(huì)影響到電場(chǎng)和氣場(chǎng)特性，導(dǎo)致能量分配不均衡，局部等離子密度過(guò)大而燒板。