CRF-VPO-4L-S 玻璃自爆等離子表面清洗機(jī)
參考價(jià) | ¥ 410000 |
訂貨量 | ≥1臺(tái) |
- 公司名稱 深圳市誠峰智造有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) CRF-VPO-4L-S
- 產(chǎn)地 廣東深圳
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2021/6/11 19:10:37
- 訪問次數(shù) 228
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產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,農(nóng)業(yè) |
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電源 | 380V/AC,50/60Hz, 3kw |
名稱(Name)
真空式等離子處理系統(tǒng)
型號(hào)(Model)
CRF-VPO-4L-S
控制系統(tǒng)(Control system)
PLC+觸摸屏
電源(Power supply)
380V/AC,50/60Hz, 3kw
中頻電源功率(RF Power)
1000W/40KHz/13.56MHz
容量(Volume )
30L(Option)
層數(shù)(Electrode of plies )
4(Option)
有效處理面積(Area)
200(L)*150(W)(Option)
氣體通道(Gas)
兩路工作氣體可選:Ar、N2、CF4、O2
產(chǎn)品特點(diǎn)
超大處理空間,提升處理產(chǎn)能,采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng),精準(zhǔn)的控制設(shè)備運(yùn)行;
可按照客戶要求定制設(shè)備腔體容量和層數(shù),滿足客戶的需求;保養(yǎng)維修成本低,便于客戶成本控制;
高精度,快響應(yīng),良好的操控性和兼容性,完善的功能和專業(yè)的技術(shù)支持。
應(yīng)用范圍
真空等離子清洗機(jī)適用于印制線路板行業(yè),半導(dǎo)體IC領(lǐng)域、硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域,汽車電子行業(yè),航空工業(yè)等。印制線路板行業(yè):高頻板表面活化,多層板表面清潔、去鉆污,軟板、軟硬結(jié)合板表面清潔、去鉆污,軟板補(bǔ)強(qiáng)前活化。半導(dǎo)體IC領(lǐng)域:COB、COG、COF、ACF工藝,用于打線、焊接前的清洗;硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域硅膠、塑膠、聚合體的等離子表面粗化、刻蝕、活化。
講述產(chǎn)生高密度等離子體的方法有很多種
等離子清洗機(jī)原理就是利用等離子的特性使用大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子,作用到固體樣品表面,不但清(除)了表面原有的污染物和雜質(zhì),而且會(huì)產(chǎn)生刻蝕作用,將樣品表面變粗糙,形成許多微細(xì)坑洼,增大了樣品的比表面。提高固體表面的潤濕性能。要外加能量給電子,簡單的方法就是用平行電極板加一直流電壓,電子在電極中,會(huì)被帶正電的電極所吸引而加速,在加速的過程中電子可以累積能量,當(dāng)電子的能量達(dá)到某一程度時(shí),就有能力來解離中性氣體原子,能產(chǎn)生高密度等離子體的方法有很多種。等離子體在低溫條件下能夠產(chǎn)生非平衡電子、反應(yīng)離子和自由基的特性。等離子體中的高能活性基團(tuán)轟擊表面,會(huì)造成濺射、熱蒸發(fā)或光致降解。等離子體*的清洗過程主要是基于等離子體濺射和刻蝕所帶來的物理和化學(xué)變化。
物理濺射的過程中,等離子體中高能量離子脈沖式的表面轟擊會(huì)導(dǎo)致表面原子發(fā)生位移,在某些情況下,還會(huì)造成次表層上原子的移位,因此物理濺射沒有選擇性。在化學(xué)刻蝕的過程中,等離子體中的活性基團(tuán)和表面原子,分子發(fā)生反應(yīng),產(chǎn)生的揮發(fā)性物質(zhì)可以通過泵抽走。在等離子刻蝕過程中,通過選擇不同的工藝參數(shù),可以對不同材料實(shí)現(xiàn)高選擇性的化學(xué)反應(yīng)刻蝕,然而這種方法對同一種材料的刻蝕是各向同性的。在離子增強(qiáng)刻蝕中,高能粒子撞擊表面時(shí),會(huì)在表面形成缺陷、位錯(cuò)或懸浮,這些缺陷提高了表面的化學(xué)反應(yīng)刻蝕速率,使這種刻蝕過程同時(shí)具備可選擇性和方向性。
在所有的這些清洗過程中,在碳?xì)浠衔锱c襯底之間的鍵合被削弱,獲得的能量使這些有(機(jī))復(fù)合物從襯底上脫離。一旦脫離有(機(jī))化合物分子基團(tuán)就會(huì)被惰性氣體帶走。等離子體所產(chǎn)生的光輻照、中性粒子流和帶電粒子轟擊為結(jié)合鍵的斷裂提供了能量。這些能量首先被碳?xì)浠衔镂蘸?,在各種形式的二次過程中又被消耗掉。正是這些各種形式的二次過程實(shí)現(xiàn)了表面清洗的效(果)。在等離子體中存在大量的紫外線輻照,能量被聚合物吸收后,產(chǎn)生了化學(xué)性質(zhì)很活躍的自由基,這些自由基和容易與等離子體中的氣體發(fā)生(發(fā))生反應(yīng),產(chǎn)生揮發(fā)性氣體。在等離子體中,快離子與中性粒子碰撞后產(chǎn)生的中性自由基不斷地轟擊樣品表面,以動(dòng)能、振動(dòng)‘解離和激發(fā)態(tài)的模式在中性粒子之間進(jìn)行電荷交換和能量傳遞。運(yùn)動(dòng)動(dòng)能和振動(dòng)動(dòng)能以一種溫和的方式加熱表面,解離和激發(fā)態(tài)產(chǎn)生的自由基以平動(dòng)或振動(dòng)的方式傳遞熱量。如果能量超過閾值,則可能導(dǎo)致濺射,并伴隨著自由基團(tuán)的產(chǎn)生。處理明(顯)的類似于機(jī)械的方法去除表面污染物濺射過程外,等離子體中的自由基是很重要的去除碳?xì)浠衔锏囊蛩亍?/p>