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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>配件耗材>質(zhì)譜儀配件/附件>離子源> 上海伯東代理進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH200

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上海伯東代理進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH200

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上海伯東是德國(guó) Pfeiffer  真空設(shè)備, 美國(guó)  KRI 考夫曼離子源, 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Gel-pak 芯片包裝盒, 日本 NS 離子蝕刻機(jī), 比利時(shí) Europlasma 等離子表面處理機(jī) 和美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備等進(jìn)口品牌代理商 .我們真誠(chéng)期待與您的合作!




質(zhì)譜分析儀,氦質(zhì)譜檢漏儀,分子泵,離子源,真空閥門

供貨周期 一個(gè)月以上
霍爾離子源 eH 200

KRI 霍爾離子源 eH 200
上海伯東代理美國(guó)進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH200 是霍爾離子源型 eH 系列中尺寸最小, 低成本設(shè)計(jì)離子源. 霍爾離子源 eH200 適用于小型真空腔內(nèi), 例如研發(fā)分析, 薄膜沉積和離子清洗. 霍爾離子源 eH200 操作簡(jiǎn)單是理想的生產(chǎn)工具.

KRI 霍爾離子源 eH 200 技術(shù)參數(shù):

型號(hào)

eH 200

供電

DC magnetic confinement

  - 電壓

40-300V VDC

  - 離子源直徑

~ 2 cm

  - 陽(yáng)極結(jié)構(gòu)

模塊化

電源控制

eHx-3005A

配置

-

  - 陰極中和器

Filament or Hollow Cathode

  - 離子束發(fā)散角度

> 45° (hwhm)

  - 陽(yáng)極

標(biāo)準(zhǔn)或 Grooved

  - 水冷

無(wú)

  - 底座

移動(dòng)或快接法蘭

  - 高度

2.0'

  - 直徑

2.5'

  -加工材料

金屬
電介質(zhì)
半導(dǎo)體

  -工藝氣體

Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

  - 安裝距離

6-24”

  - 自動(dòng)控制

控制4種氣體

* 可選: 可調(diào)角度的支架; Filamentless; Sidewinder

KRI 霍爾離子源 eH 200 應(yīng)用領(lǐng)域:
濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
直接沉積 DD




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