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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>配件耗材>質(zhì)譜儀配件/附件>離子源> 上海伯東KRI 線性霍爾離子源 eH Linear

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上海伯東KRI 線性霍爾離子源 eH Linear

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離子源射頻離子源考夫曼離子源

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上海伯東是德國 Pfeiffer  真空設(shè)備, 美國  KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機(jī), 美國 Gel-pak 芯片包裝盒, 日本 NS 離子蝕刻機(jī), 比利時(shí) Europlasma 等離子表面處理機(jī) 和美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備等進(jìn)口品牌代理商 .我們真誠期待與您的合作!




質(zhì)譜分析儀,氦質(zhì)譜檢漏儀,分子泵,離子源,真空閥門

供貨周期 一個(gè)月以上
線性霍爾離子源 eH Linear

KRI 線性霍爾離子源 eH Linear
上海伯東代理美國進(jìn)口 KRI  線性離子源使用 eH 400 做為模組, 能應(yīng)用于寬范圍的襯底, 離子源長度高達(dá) 1 米, 通過嚴(yán)格調(diào)整模組間的距離可以實(shí)現(xiàn)更佳的均勻性和離子流. 由于模組是平行放置, 大大簡化了氣體, 功率和電子三者的分布. KRI 線性離子源使用標(biāo)準(zhǔn)的端部霍爾模組并使設(shè)備的需求簡化, 一個(gè)低成本, 高電流和低能量的離子束可以很好的使用于 web 涂層, in-line 沉積和圓柱旋轉(zhuǎn)濺射系統(tǒng).

霍爾離子源 eH 400 尺寸
尺寸: 直徑= 3.7“ 高= 3”
放電電壓 / 電流: 50-300eV / 5A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機(jī)前體

KRI 霍爾離子源 eH Linear 技術(shù)參數(shù)

型號(hào)

eHL400-2/ eHL400-3/ eHL400-4/ eHL400-5

供電

DC magnetic confinement

  - 電壓

40-200V VDC

  - 陽極結(jié)構(gòu)

模塊化

電源控制

eHL-30010A

配置

-

  - 陰極中和器

Filamentless

  - 離子束發(fā)散角度

> 45° (hwhm)

  - 陽極

標(biāo)準(zhǔn)或 Grooved

  - 底座

移動(dòng)或快接法蘭

  - 高度

10 cm

寬度

10 cm

  - 長度

~ 100cm

  -工藝氣體

Ar, Xe, Kr, O2, N2, Others

 

Model

eHL 200-3

eHL 200-5

Height (nominal)

2.9” (7.4cm)

2.9” (7.4cm)

Width (nominal)

3.3” (8.4cm)

3.3” (8.4cm)

Length (nominal)

Determined by number of modules & application

Determined by number of modules & application

Cathode/Neutralizer

Yes

Yes

Anode module

Yes

Yes

Filamentless

Yes

Yes

Orientation

Vertical / Horizontal

Vertical / Horizontal

Process gases

Inert, reactive, & organic

Inert, reactive, & organic

Power controller

eH Plasma Power Pack

eH Plasma Power Pack


1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

若您需要進(jìn)一步的了解 KRI 霍爾離子源, 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式
上海伯東: 羅先生




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